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发明公开
SUBSTRATE HOLDER FOR USE IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开

公开(公告)号：EP3695276A1

公开(公告)日：2020-08-19

申请号：EP18769724.8

申请日：2018-09-19

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： ROSET, Niek Jacobus Johannes , VERMEULEN, Marcus Martinus Petrus Adrianus , RAVENSBERGEN, Simon Karel , BAGGEN, Mark Constant Johannes , KRAMER, Gijs , TIMMERMANS, Roger Anton Marie , VAN DEN BERKMORTEL, Frank Pieter Albert

IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/687