公开(公告)号：EP2423350B1

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：EP10174387.0

申请日：2010-08-27

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Brüning, Andre ,  Heimel, Oliver ,  Hinterschuster, Reiner ,  Wolf, Hans Georg

IPC分类号： C23C14/50 ,  C03C17/00

CPC分类号： C23C14/50 ,  C03C17/002 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49963

公开(公告)号：EP1970467B1

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：EP07104144.6

申请日：2007-03-14

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Gebele, Thomas ,  Lopp, Andreas ,  Heimel, Oliver

IPC分类号： C23C14/56 ,  B65G49/06

CPC分类号： C03C17/002 ,  C03C2218/114 ,  H01L21/6715

公开(公告)号：EP1970467A1

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：EP07104144.6

申请日：2007-03-14

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Gebele, Thomas ,  Lopp, Andreas ,  Heimel, Oliver

IPC分类号： C23C14/56 ,  B65G49/06

CPC分类号： C03C17/002 ,  C03C2218/114 ,  H01L21/6715

摘要： Die Erfindung betrifft eine Flutungskammer für Beschichtungsanlagen, mit welcher kürzere Flutungszeiten und damit kürzere Taktzeiten erreicht werden können. Dabei kommen zwei Flutungseinrichtungen zum Einsatz, zwischen denen ein Substrat symmetrisch angeordnet ist. Die Flutungseinrichtungen richten einen Gasstrahl direkt auf das Substrat. Hierdurch wird das Substrat zwischen den Flutungseinrichtungen fixiert.

摘要翻译： 该腔室具有两个淹水单元，其包括包括一组流体渗透开口的淹水壁。 一个溢流单元布置在平面基板的一侧上，另一个溢流单元布置在平面基板的另一侧上。 溢流单元以给定的流体压力连接到流体源。 流体穿透开口的一部分指向基底（11）。

公开(公告)号：EP2085494A1

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：EP08101220.5

申请日：2008-02-01

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Wolf, Hans ,  Heimel, Oliver ,  Krempel-Hesse, Jörg ,  Fuchs, Frank

IPC分类号： C23C14/56

CPC分类号： C23C14/564

摘要： The present invention refers to a coating device for coating of substrates comprising at least two process chambers (1, 2, 3, 4) being disposed adjacent to each other, a separating plate (9) between the two adjacent process chambers, and pumping means (12, 13) for evacuating the process chambers, wherein the separating plate (9) comprises a conduit having at least two ends, one end of which is connected with the pumping means and the other end has at least one suction opening for at least one of the process chambers.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于涂覆基材的涂布装置，其包括彼此相邻设置的至少两个处理室（1,2,3,4），位于两个相邻处理室之间的分离板（9），以及泵装置 （12,13），用于抽空处理室，其中分离板（9）包括具有至少两个端部的管道，其一端与泵送装置连接，另一端具有至少一个至少一个吸入口 其中一个处理室。

公开(公告)号：EP2423350A1

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：EP10174387.0

申请日：2010-08-27

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Brüning, Andre ,  Heimel, Oliver ,  Hinterschuster, Reiner ,  Wolf, Hans Georg

IPC分类号： C23C14/50

CPC分类号： C23C14/50 ,  C03C17/002 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49963

摘要： The present invention is relates to carriers for substrates and to methods for assembling the same in the field of vacuum deposition of thin films. In particular, the present invention is directed a carrier (1) for a substrate to be coated in a vacuum chamber comprising: a first frame (3) comprising two vertical sections (32) and two horizontal sections (31) being dimensioned to surround the substrate; a second frame (2) dimensioned to define an area of the substrate to be coated, and to cover at least a first part (33) of the first frame (3) to prevent the first part (33) of the first frame (3) from being coated when the second frame (2) is mounted to the first frame (3); and wherein the second frame (2) is detachably mounted to the first frame (3).

摘要翻译： 本发明涉及衬底的载体及其在薄膜真空沉积领域的组装方法。 特别地，本发明涉及一种用于要涂覆在真空室中的基底的载体（1），包括：包括两个垂直部分（32）和两个水平部分（31）的第一框架（3），其尺寸被设计成围绕 基质; 第二框架（2）的尺寸设置成限定待涂覆的基底的区域，并且覆盖第一框架（3）的至少第一部分（33）以防止第一框架（3）的第一部分（33） ）在第二框架（2）安装到第一框架（3）时被涂覆; 并且其中所述第二框架（2）可拆卸地安装到所述第一框架（3）。

公开(公告)号：EP2085494B1

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：EP08101220.5

申请日：2008-02-01

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Wolf, Hans ,  Heimel, Oliver ,  Krempel-Hesse, Jörg ,  Fuchs, Frank

IPC分类号： C23C14/56

CPC分类号： C23C14/564

公开(公告)号：EP2180501A1

公开(公告)日：2010-04-28

申请号：EP08167573.8

申请日：2008-10-24

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Lippert, Lothar ,  Heimel, Oliver

IPC分类号： H01J37/34 ,  C23C14/34

CPC分类号： H01J37/3435

摘要： A rotatable target base device for sputtering installations is provided, wherein the target base device is adapted for receiving thereon a solid target cylinder, the rotatable target base device comprising a target base cylinder (4) having a lateral surface (3), a middle part (12), a first end region (7) and a second end region (9) opposite to the first end region, wherein at least one of the first and the second end regions has a maximum outer diameter substantially equal to or less than the outer diameter of the middle part.

摘要翻译： 用于溅射设备的可旋转基部靶材基座装置被提供，worin该靶材基座装置适于在其上的固体靶材圆柱接收，可旋转的基座靶材基座装置包括：靶材基座圆柱（4），其具有一个侧表面（3），中间部 （12），第一端部区域（7）和第二端部区域（9）相对的第一端部区域，第一和第二端部区域的worin至少一个具有最大外径，其实质上等于或小于该 中间部分的外径。