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1.

发明公开
METHODS FOR DEPOSITING COATINGS ON AEROSPACE COMPONENTS 审中-公开

公开(公告)号：EP3768874A1

公开(公告)日：2021-01-27

申请号：EP19771810.9

申请日：2019-03-18

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： MELNIK, Yuriy , CHATTERJEE, Sukti , GANGAKHEDKAR, Kaushal , FRANKEL, Jonathan , SCUDDER, Lance A. , NARWANKAR, Pravin K. , BRITZ, David , KNISLEY, Thomas , SALY, Mark , THOMPSON, David

IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/42

2.

发明公开
METHODS FOR INCREASING THE DENSITY OF HIGH-INDEX NANOIMPRINT LITHOGRAPHY FILMS 审中-公开

公开(公告)号：EP4139746A1

公开(公告)日：2023-03-01

申请号：EP21793032.0

申请日：2021-02-23

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： CEBALLOS, Andrew , HOURANI, Rami , OHNO, Kenichi , MELNIK, Yuriy , JOSHI, Amita

IPC分类号： G03F7/00 , C23C16/04 , C23C16/40 , C23C16/455

3.

发明公开
METHODS FOR FORMING PROTECTIVE COATINGS CONTAINING CRYSTALLIZED ALUMINUM OXIDE 审中-公开

公开(公告)号：EP4025722A1

公开(公告)日：2022-07-13

申请号：EP20861899.1

申请日：2020-07-09

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： OHNO, Kenichi , LIU, Eric H. , CHATTERJEE, Sukti , MELNIK, Yuriy , KNISLEY, Thomas , BRITZ, David Alexander , SCUDDER, Lance A , NARWANKAR, Pravin K.

IPC分类号： C23C16/40 , C23C16/56 , F01D5/28

4.

发明公开
METHODS FOR DEPOSITING POLYMER LAYER FOR SENSOR APPLICATIONS VIA HOT WIRE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 审中-公开

公开(公告)号：EP3551780A1

公开(公告)日：2019-10-16

申请号：EP17878511.9

申请日：2017-12-07

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： NEIKIRK, Colin , MELNIK, Yuriy , NARWANKAR, Pravin K.

IPC分类号： C23C16/452 , C23C16/448 , H01L21/02

5.

发明公开
PROTECTION OF COMPONENTS FROM CORROSION 审中-公开

公开(公告)号：EP3784815A1

公开(公告)日：2021-03-03

申请号：EP19793402.9

申请日：2019-02-22

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： BRITZ, David , NARWANKAR, Pravin K. , THOMPSON, David , MELNIK, Yuriy , CHATTERJEE, Sukti

IPC分类号： C23C28/00 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/04 , C23C16/02 , F01D5/28

6.

发明公开
REACTOR FOR APPLYING A COATING ON INTERNAL SURFACES OF COMPONENTS 审中-公开

公开(公告)号：EP3768875A1

公开(公告)日：2021-01-27

申请号：EP19772037.8

申请日：2019-03-18

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： MELNIK, Yuriy , CHATTERJEE, Sukti , GANGAKHEDKAR, Kaushal , FRANKEL, Jonathan , SCUDDER, Lance A. , NARWANKAR, Pravin K. , BRITZ, David Alexander , ISHIKAWA, David Masayuki

IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/04 , C23C16/458

7.

发明公开
METHOD, MATERIALS AND PROCESS FOR NATIVE OXIDE REMOVAL AND REGROWTH OF DIELECTRIC OXIDES FOR BETTER BIOSENSOR PERFORMANCE 审中-公开

公开(公告)号：EP3688205A1

公开(公告)日：2020-08-05

申请号：EP18861942.3

申请日：2018-09-21

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： ARNEPALLI, Ranga Rao , NEIKIRK, Colin Costano , MELNIK, Yuriy , SETH, Suresh Chand , NARWANKAR, Pravin K. , CHATTERJEE, Sukti , SCUDDER, Lance A.

IPC分类号： C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/56 , C23C16/01 , C12Q1/6869

8.

发明公开
METHODS FOR CLEANING AEROSPACE COMPONENTS 审中-公开

公开(公告)号：EP4200089A1

公开(公告)日：2023-06-28

申请号：EP21858941.4

申请日：2021-08-17

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： CHATTERJEE, Sukti , SCUDDER, Lance A. , MELNIK, Yuriy , OHNO, Kenichi , LIU, Eric H. , BRITZ, David Alexander

IPC分类号： B08B7/00 , B64G1/22

9.

发明公开
METHODS FOR INCREASING THE REFRACTIVE INDEX OF HIGH-INDEX NANOIMPRINT LITHOGRAPHY FILMS 审中-公开

公开(公告)号：EP4139745A1

公开(公告)日：2023-03-01

申请号：EP21793030.4

申请日：2021-02-19

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： CEBALLOS, Andrew , HOURANI, Rami , OHNO, Kenichi , MELNIK, Yuriy , JOSHI, Amita

IPC分类号： G03F7/00 , C23C16/04 , C23C16/40 , C23C16/455

10.

发明公开
METHODS FOR DEPOSITING SACRIFICIAL COATINGS ON AEROSPACE COMPONENTS 审中-公开

公开(公告)号：EP3983570A1

公开(公告)日：2022-04-20

申请号：EP20822999.7

申请日：2020-04-08

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： CHATTERJEE, Sukti , OHNO, Kenichi , SCUDDER, Lance A. , MELNIK, Yuriy , BRITZ, David A. , NARWANKAR, Pravin K. , KNISLEY, Thomas , SALY, Mark , ANTHIS, Jeffrey

IPC分类号： C23C10/60 , C23C10/30 , C23C28/04