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1.

发明授权
SOURCE DE PLASMA 有权
标题翻译：源于等离子体

公开(公告)号：EP2954758B1

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：EP13704058.0

申请日：2013-02-06

申请人： Arcelormittal Investigación y Desarrollo SL

发明人： DUMINICA, Florin Daniel , LECLERCQ, Vincent , SILBERBERG, Eric , DANIEL, Alain

IPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32871 , C23C16/50 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32623 , H01J37/3266 , H01J37/32669 , H01J2237/3321 , H01J2237/3323 , H05H1/46 , H05H2001/466