Detektion der Emissionsstrahlung einer UV-lichtemissionsdiode durch baugleiche UV-lichtempfangsdiode
    1.
    发明公开
    Detektion der Emissionsstrahlung einer UV-lichtemissionsdiode durch baugleiche UV-lichtempfangsdiode 审中-公开
    紫外线发射二极管紫外线二极管

    公开(公告)号:EP2682738A1

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:EP12175185.3

    申请日:2012-07-05

    IPC分类号: G01N17/00

    摘要: Die Vorrichtung weist eine in der Bewitterungskammer (1) angeordnete UV-Lichtemissionsdiode (UV-LED) (2) und eine UV-Lichtempfangsdiode (4) auf, welche auf derselben Materialbasis aufgebaut ist wie die UV-LED (2) und derart relativ zu der UV-LED (2) angeordnet ist, dass im Betrieb der Vorrichtung ein Anteil der von der UV-LED (2) emittierten Strahlung auf die UV-Lichtempfangsdiode (4) auftrifft.

    摘要翻译: 该装置具有布置在风化室中并包括UV LED(2)的UV辐射装置。 UV光接收二极管(4)由基于UV LED的相同材料制成,并且相对于UV LED布置,使得在器件操作期间由UV LED发射的UV辐射的一部分照射在接收二极管上。 UV LED和接收二极管布置在扁平的矩形公共载体(5)即电路板上。 耦合介质即石英玻璃块(6)布置在入射在接收二极管上的部分的光束路径中。 还包括用于操作用于人为风化或测试样品的耐光性的装置的方法的独立权利要求。

    Vorrichtung zur Simulation einer spektralen UV-Charakteristik durch UV-Lichtemissionsdioden

    公开(公告)号:EP2682737A1

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:EP12175179.6

    申请日:2012-07-05

    IPC分类号: G01N17/00

    CPC分类号: G01N1/44 G01N17/004

    摘要: Die Vorrichtung weist eine Bewitterungskammer (1) auf, in welcher eine UV-Strahlungsvorrichtung (2; 20; 30) angeordnet ist und in einer davon beabstandeten Probenebene mindestens eine Probe (3) anordenbar ist, wobei die UV-Strahlungsvorrichtung (2; 20; 30) eine Mehrzahl von UV-Lichtemissionsdioden (UV-LEDs) (2.1; 21; 31.n) enthaltend zwei oder mehr Klassen von UV-LEDs (2.1; 21; 31.n) verschiedener Emissionsbanden aufweist, wobei die Emissionsbanden derart gewählt sind, dass in der Probenebene eine Spektralverteilung erzielbar ist, mit der eine bestimmte spektrale UV-Charakteristik approximiert wird.

    摘要翻译: 该装置具有设置有UV辐射装置(30)的风化室和以预定距离排列的样品。 UV辐射装置配有UV LED(31.n)。 UV LED具有不同的发光带。 选择发射带使得获得样品平面中的光谱分布并且近似某些光谱UV特性。 对于样品的人造风化或耐光性测试操作装置的方法,包括独立权利要求。

    Regelung der UV-Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung auf der Basis der gemittelten Strahlungsintensität
    5.
    发明公开
    Regelung der UV-Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung auf der Basis der gemittelten Strahlungsintensität 有权
    基于所述平均辐射强度控制老化的UV辐射源

    公开(公告)号:EP1624296A3

    公开(公告)日:2007-06-13

    申请号:EP05015666.0

    申请日:2005-07-19

    IPC分类号: G01N17/00

    CPC分类号: G01N17/004

    摘要: Die UV-Strahlungsquellen (2) einer Bewitterungsvorrichtung werden hinsichtlich der von ihnen abgegebenen Strahlungsleistung derart geregelt, dass die Strahlungsleistung jeder der Strahlungsquellen (2) in einem vorgegebenen spektralen Bereich der von den Strahlungsquellen emittierten Strahlung gemessen wird, wobei der spektrale Bereich derart gewählt ist, dass die gemessene Strahlungsleistung für die Strahlungsleistung im UV repräsentativ ist, aus den gemessenen Strahlungsleistungen eine gemittelte Strahlungsleistung berechnet wird und die gemittelte Strahlungsleistung für die Regelung der den Strahlungsquellen (2) zuzuführenden elektrischen Leistung herangezogen wird. Die Regelung kann insbesondere derart erfolgen, dass den Strahlungsquellen (2) untereinander die gleiche elektrische Leistung innerhalb einer vorgegebenen Toleranzbandbreite zugeführt wird und die gemittelte Strahlungsleistung auf einem gewünschten Sollwert zeitlich konstant gehalten wird.

    Regelung der UV-Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung auf der Basis der gemittelten Strahlungsintensität
    6.
    发明公开
    Regelung der UV-Strahlungsquellen einer Bewitterungsvorrichtung auf der Basis der gemittelten Strahlungsintensität 有权
    基于所述平均辐射强度控制老化的UV辐射源

    公开(公告)号:EP1624296A2

    公开(公告)日:2006-02-08

    申请号:EP05015666.0

    申请日:2005-07-19

    IPC分类号: G01N17/00

    CPC分类号: G01N17/004

    摘要: Die UV-Strahlungsquellen (2) einer Bewitterungsvorrichtung werden hinsichtlich der von ihnen abgegebenen Strahlungsleistung derart geregelt, dass die Strahlungsleistung jeder der Strahlungsquellen (2) in einem vorgegebenen spektralen Bereich der von den Strahlungsquellen emittierten Strahlung gemessen wird, wobei der spektrale Bereich derart gewählt ist, dass die gemessene Strahlungsleistung für die Strahlungsleistung im UV repräsentativ ist, aus den gemessenen Strahlungsleistungen eine gemittelte Strahlungsleistung berechnet wird und die gemittelte Strahlungsleistung für die Regelung der den Strahlungsquellen (2) zuzuführenden elektrischen Leistung herangezogen wird. Die Regelung kann insbesondere derart erfolgen, dass den Strahlungsquellen (2) untereinander die gleiche elektrische Leistung innerhalb einer vorgegebenen Toleranzbandbreite zugeführt wird und die gemittelte Strahlungsleistung auf einem gewünschten Sollwert zeitlich konstant gehalten wird.

    摘要翻译: 该UV调节方法涉及测量每个辐射源的辐射功率在发射的辐射的给定光谱范围。 的光谱范围内被选择寻DASS死测量的功率是表示紫外线(UV)辐射的功率。 确定性开采辐射功率从测量的功率计算。 然后,该确定的开采值用于调节电功率馈送到辐射源。 因此独立的权利要求覆盖用于执行该方法的装置的风化。

    UV-Lichtemissionsdioden als Strahlungsquelle einer Vorrichtung zur künstlichen Bewitterung von Proben
    7.
    发明公开
    UV-Lichtemissionsdioden als Strahlungsquelle einer Vorrichtung zur künstlichen Bewitterung von Proben 有权
    UV发光二极管作为辐射源的装置用于样品的人工风化

    公开(公告)号:EP1528388A1

    公开(公告)日:2005-05-04

    申请号:EP04022818.1

    申请日:2004-09-24

    IPC分类号: G01N17/00

    CPC分类号: G01N17/004

    摘要: Die in konventionellen Bewitterungsprüfgeräten übliche Xenon-Strahlungsquelle wird durch UV-emittierende Lichtemissionsdioden (LED) (6) ersetzt. Mit diesen kann der UV-Anteil des Sonnenspektrums insbesondere dadurch gut angenähert werden, indem verschiedene Sorten von UV-emittierenden Lichtemissionsdioden (6) mit verschiedenen Emissionscharakteristika verwendet werden. Gewünschtenfalls können noch weitere Lichtemissionsdioden im sichtbaren Spektralbereich eingesetzt werden, um weitere Teile des Sonnenspektrums abzudecken. Die Lichtemissionsdioden (6) können auf einer flexiblen Leiterplatte (5) montiert und diese kann auf einen rohrförmigen Haltekörper (4) aufgebracht werden. Die die Lichtemissionsdioden tragende flexible Leiterplatte kann auch auf andere formstabil verbiegbare Substrate (7) aufgebracht werden, um mit gleichmäßigem Abstand gegenüber Werkstoffproben mit bestimmter Oberflächentopologie im Sinne einer gleichmäßigen Bestrahlung angeordnet werden zu können.

    摘要翻译: 耐候设备(1)包括风化室也包含保持机构,用于保持样品(3)的风化,用于施加UV辐射到样品中紫外(UV)辐射装置,以及UV发光二极管(LED)装置(6 ),具有紫外线辐射装置。

    Sensoreinrichtung mit mehreren Sensoren für eine Bewitterungsvorrichtung
    9.
    发明公开
    Sensoreinrichtung mit mehreren Sensoren für eine Bewitterungsvorrichtung 审中-公开
    传感器装置具有多个传感器的一个老化

    公开(公告)号:EP2982962A1

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:EP14180157.1

    申请日:2014-08-07

    IPC分类号: G01N17/00 G01D11/24

    摘要: Die Sensoreinrichtung (100) weist ein Sensorgehäuse (110) auf, mit welchem mindestens zwei Sensoren aus einer Gruppe enthaltend einen Schwarzstandardsensor (120), einen UV-Strahlungssensor (130), einen Lufttemperatursensor, und einen Luftfeuchtigkeitssensor verbunden sind.

    摘要翻译: 所述的传感器装置(100)具有传感器壳体(110),相关联的与从含有黑色标准传感器(120),一UV辐射传感器(130),空气温度传感器和湿度传感器的组中选择的至少两个传感器。

    Bewitterungsprüfung bei verschiedenen UV-Wellenlängen von UV-Lichtemissionsdioden
    10.
    发明公开
    Bewitterungsprüfung bei verschiedenen UV-Wellenlängen von UV-Lichtemissionsdioden 审中-公开
    紫外线紫外线荧光紫外线

    公开(公告)号:EP2682739A1

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:EP12175187.9

    申请日:2012-07-05

    IPC分类号: G01N17/00

    CPC分类号: G01N1/44 G01N17/004

    摘要: Die Vorrichtung weist eine Bewitterungskammer (1) auf, in welcher eine UV-Strahlungsvorrichtung (2) angeordnet ist und mindestens eine Probe (3) anordenbar ist, wobei die UV-Strahlungsvorrichtung (2) eine Mehrzahl von UV-Lichtemissionsdioden (UV-LEDs) (2.1; 21) enthaltend UV-LEDs (2.1; 21) verschiedener Emissionsbanden aufweist, wobei die UV-LEDs (2.1; 21) derart ansteuerbar sind, dass jeweils UV-LEDs (2.1; 21) einer bestimmten Emissionsbande unabhängig von UV-LEDs (2.1; 21) der anderen Emissionsbanden gemeinsam ein- und ausschaltbar sind. Bei dem Verfahren wird mindestens eine Probe mit Strahlung von mindestens einer UV-LED (2.1; 21) einer bestimmten Emissionsbande bestrahlt und anschließend werden Veränderungen der Probe aufgrund der Bestrahlung analysiert.

    摘要翻译: 该方法涉及用具有不同发射带的UV发光二极管(UV-LED)(21))的紫外线(UV)辐射装置(20)初始化风化室。 将样品放置在远离UV-LED的风化室中。 用特定发射带的一个UV-LED的辐射照射样品,并分析由于照射引起的样品变化。 布置或控制发射带的UV-LED,使得辐射密度的位置相关变化在预定限度内。 对于样品的人造风化或耐光性试验的装置包括独立权利要求。