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1.发明公开VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOMOGEN MATTIERTER BESCHICHTUNGEN MITTELS STRAHLENHÄRTUNG 有权VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOMOGEN MATTIERTER BESCHICHTUNGEN MITTELSSTRAHLENHÄRTUNG
公开(公告)号：EP2794126A1
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：EP12806034.0
申请日：2012-12-17
发明人： FISCHER, Wolfgang , YUVA, Nusret , KEWELOH, Ludger , MEIER, Antje
CPC分类号： B05D3/067 , B05D3/0209 , B05D3/0486 , B05D3/062 , B05D5/02 , C09D133/08 , C09D133/14
摘要： The present invention relates to a method for producing matte and scratch-resistant coatings that are provided through the effect of actinic radiation on activated double bonds containing coating systems under radical polymerisation.
摘要翻译： 本发明涉及一种在自由基聚合下在含有活化双键的涂料体系下，在曝光于光化辐射下发生的亚光和耐划伤涂层的方法。
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2.发明授权VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOMOGEN MATTIERTER BESCHICHTUNGEN MITTELS STRAHLENHÄRTUNG 有权VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOMOGEN MATTIERTER BESCHICHUNGUNG MITTELSSTRAHLENHÄRTUNG
公开(公告)号：EP2794126B1
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：EP12806034.0
申请日：2012-12-17
发明人： FISCHER, Wolfgang , YUVA, Nusret , KEWELOH, Ludger , MEIER, Antje
IPC分类号： B05D3/06 , B05D5/02 , B05D3/02 , B05D3/04 , C09D133/08 , C09D133/14
CPC分类号： B05D3/067 , B05D3/0209 , B05D3/0486 , B05D3/062 , B05D5/02 , C09D133/08 , C09D133/14
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