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1.发明授权
公开(公告)号：EP2420583B1
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：EP11005688.4
申请日：2011-07-12
IPC分类号： C22C5/04
CPC分类号： C22C5/04 , A44C27/003
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2.发明授权
公开(公告)号：EP2325351B1
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：EP10014541.6
申请日：2010-11-12
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/0245 , C23C16/02 , C23C16/45544
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公开(公告)号：EP2420583A3
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：EP11005688.4
申请日：2011-07-12
IPC分类号： C22C5/04
CPC分类号： C22C5/04 , A44C27/003
摘要： Die Erfindung betrifft eine Ideal-weiße, anlaufbeständige Edelmetall-Schmucklegierung enthaltend Rhodium und Platin.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Schmucklegierung Rhodium in einem Gewichtsanteil von 40 bis 70 Gew.-% und Platin in einem Gewichtsanteil von 60 bis 30 Gew.-% aufweist, wobei sich der Gewichtsanteil von Platin und der Gewichtsanteil von Rhodium im Wesentlichen zu 100 % ergänzen.摘要翻译： 本发明涉及一种理想的白色，含铑和铂玷污性贵金属珠宝合金。 根据本发明，它提供的是，珠宝合金铑包括在40至70重量％，在60的重量比例％和铂的重量比例至30重量％，其中铂的重量比和铑的重量比至基本上100％的 补充。
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公开(公告)号：EP2420583A8
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：EP11005688.4
申请日：2011-07-12
IPC分类号： C22C5/04
CPC分类号： C22C5/04 , A44C27/003
摘要： Die Erfindung betrifft eine Ideal-weiße, anlaufbeständige Edelmetall-Schmucklegierung enthaltend Rhodium und Platin.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Schmucklegierung Rhodium in einem Gewichtsanteil von 40 bis 70 Gew.-% und Platin in einem Gewichtsanteil von 60 bis 30 Gew.-% aufweist, wobei sich der Gewichtsanteil von Platin und der Gewichtsanteil von Rhodium im Wesentlichen zu 100 % ergänzen.-
5.发明公开Ideal-weiße, analaufbeständige Edelmetall-Schmucklegierung 有权Sch ung ung iner iner iner iner iner ung ung ung ung ung ung ung ung ung ung ung ung ung ung
公开(公告)号：EP2420583A2
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：EP11005688.4
申请日：2011-07-12
IPC分类号： C22C5/04
CPC分类号： C22C5/04 , A44C27/003
摘要： Die Erfindung betrifft eine Ideal-weiße, anlaufbeständige Edelmetall-Schmucklegierung enthaltend Rhodium und Platin.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Schmucklegierung Rhodium in einem Gewichtsanteil von 40 bis 70 Gew.-% und Platin in einem Gewichtsanteil von 60 bis 30 Gew.-% aufweist, wobei sich der Gewichtsanteil von Platin und der Gewichtsanteil von Rhodium im Wesentlichen zu 100 % ergänzen.摘要翻译： 理想的白色，耐晦暗的贵金属首饰合金包括铑（40-70重量％），铂（60-30重量％）和钌，铱和/或金（20重量％）和/ 或钯（30重量％），其中铑，铂和添加剂的总量为100％，铂通过钯代替。
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6.发明公开
公开(公告)号：EP2325351A1
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：EP10014541.6
申请日：2010-11-12
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/0245 , C23C16/02 , C23C16/45544
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung einer metallischen Substratoberfläche mit einer durch einen ALD-Prozess aufgebrachten Materialschicht.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die zu beschichtende metallische Substratoberfläche vor dem Aufbringen der Materialschicht, welches in einer zweiten Prozesskammer (20) der Vorrichtung (1) stattfindet, in einer ersten Prozesskammer (10) der Vorrichtung (1) einer mindestens zweistufigen Plasma-Vorbehandlung unterzogen wird, wobei in einer ersten Stufe der zweistufigen Plasma-Vorbehandlung eine Reduktion der Substratoberfläche mit einem reduzierenden Plasma und anschließend in einer zweiten Stufe eine Oxidation der zu beschichtenden Substratoberfläche mit einem oxidierenden Plasma durchgeführt wird.摘要翻译： 用于涂覆金属基材与通过应用到原子层沉积工艺的材料层表面，所述方法包括应用所述材料层的成两步等离子体预处理，其中降低基片表面的是之前对所述金属基材表面 在两阶段等离子体处理的第一阶段与还原性等离子体进行，然后于基片表面要涂覆的氧化进行与在第二阶段氧化性等离子体。 用于涂覆金属基材与通过应用到原子层沉积工艺的材料层表面，所述方法包括应用所述材料层的成两步等离子体预处理，其中降低基片表面的是之前对所述金属基材表面 在两阶段等离子体处理的第一阶段与还原性等离子体进行，然后于基片表面要涂覆的氧化进行与在第二阶段氧化性等离子体。 碳 - 等离子体，氢等离子体，等离子体二氧化碳，烃等离子体或氩等离子体被用作还原介质。 氧等离子体，臭氧等离子体或氯等离子体用作氧化介质。 的等离子体预处理的第二阶段之后，等离子体预处理的第三阶段是通过将金属基材用氯等离子体表面上进行。 所述等离子体预处理是在低压方法，其中压力为0:25毫巴开展。 所述等离子体预处理是在室温下进行。 基板表面在100℃下进行的原子层沉积工艺进行加热。 与还原等离子体的金属基材表面的处理的期间，在3分钟下进行。 所述金属基材的表面与氧化等离子体和/或氧化增强等离子体处理过程中持续1分钟的被执行。 一个独立的claimsoft被包括为用于涂覆工件的金属基材表面的装置。
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