公开(公告)号：EP0896042A1

公开(公告)日：1999-02-10

申请号：EP98305999.9

申请日：1998-07-28

申请人： Cabot Corporation

发明人： Grumbine, Steven K. ,  Streinz, Christopher C. ,  Hoglund, Eric W.G.

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/321 ,  C09K3/14 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04 ,  C23F3/06

CPC分类号： C23F3/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

摘要： A chemical mechanical polishing composition and slurry comprising a composition capable of etching tungsten and at least one inhibitor of tungsten etching and methods for using the composition and slurry to polish tungsten containing substrates.

摘要翻译： 一种化学机械抛光组合物和浆料，其包含能够蚀刻钨和至少一种钨蚀刻抑制剂的组合物，以及使用该组合物和浆料抛光含钨基材的方法。

公开(公告)号：EP0844290A1

公开(公告)日：1998-05-27

申请号：EP97309476.6

申请日：1997-11-25

申请人： CABOT CORPORATION

发明人： Grumbine, Steven K. ,  Streinz, Christopher C. ,  Mueller, Brian L.

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  H01L21/321

CPC分类号： C23F3/00 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212

摘要： A chemical mechanical polishing precursor composition comprising at least one catalyst having multiple oxidation states, and at least one stabilizer, the composition being useful when admixed with an oxidizing agent prior to use to remove metal layers from a substrate. Also disclosed is a chemical mechanical polishing composition comprising an oxidizing agent and at least one catalyst having multiple oxidation sites, the composition being useful when combined with an abrasive or an abrasive pad to remove metal layers from a substrate.

摘要翻译： 一种化学机械抛光前体组合物包含至少一种具有催化剂多个氧化态，和至少一种稳定剂，该组合物是有用的。当与氧化使用以从基板去除金属层之前剂混合。 游离缺失所以盘是一种化学机械抛光组合物，包括氧化剂和具有多个氧化位点的至少一种催化剂的，该组合物是有用的。当与或磨料组合以研磨垫以从衬底去除金属层。