Procédé et dispositif pour la mesure de fonds de cratères dans un analyseur physico-chimique
    2.
    发明公开
    Procédé et dispositif pour la mesure de fonds de cratères dans un analyseur physico-chimique 有权
    Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Strukturtiefen einerProbenoberfläche

    公开(公告)号:EP0942261A1

    公开(公告)日:1999-09-15

    申请号:EP99400572.6

    申请日:1999-03-09

    申请人: CAMECA

    发明人: Monsallut, Pierre

    IPC分类号: G01B11/22

    CPC分类号: G01B11/22

    摘要: L'invention concerne un procédé de mesure de fond de cratères en cours de formation sur un échantillon (4) placé à l'intérieur d'une chambre d'analyse d'un analyseur physico-chimique, par interférométrie optique.
    Il consiste :

    à partager (8) un faisceau laser (6) incident suivant deux bras parallèles, un bras de mesure (1) et un bras de référence (2),
    à focaliser à la surface (3) de l'échantillon chacun des deux bras (1, 2), respectivement l'un dans le cratère, l'autre à proximité, suivant une direction incidente inclinée relativement à la surface (3) de l'échantillon (4),
    à recombiner (13) les deux faisceaux réfléchis par la surface de l'échantillon pour ne former qu'un seul faisceau,
    et à appliquer le faisceau recombiné à un détecteur interférométrique (14) pour mesurer la différence de marche entre les deux faisceaux réfléchis.

    Applications : Analyseurs inoniques.

    摘要翻译: 该系统使用光学干涉测量,可以在形成火山口的同时进行测量。 用于测量在样品(4)上形成的坑的深度的系统使用光学干涉测量法。 它包括将(8)入射激光束(6)分成两个平行光束,一个是测量光束(1),一个是参考光束(2)。 两个光束中的每一个都被聚焦到样品表面上,一个在火山口中,另一个位于附近,沿着相对于样品表面倾斜的入射方向。 然后将反射光束重新组合以仅形成一个光束。 这被应用于干涉检测器(14)以测量两个反射光束之间的路径差。