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1.发明授权Procédé et dispositif pour le dépôt, sur un support, d'une couche mince d'un matériau à partir d'un plasma réactif 失效通过反应性等离子体沉积在基底上的薄层沉积的方法和装置
公开(公告)号：EP0149408B1
公开(公告)日：1988-07-27
申请号：EP84420217.6
申请日：1984-12-21
申请人： ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications) , Etablissement Public dit: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： Pelletier, Jacques , Arnal, Yves , Pauleau, Yves
IPC分类号： C23C16/50
CPC分类号： H01J37/32623 , C23C16/50 , H01J37/32688 , H01J37/32706 , H01J37/34
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2.发明公开Procédé et dispositif de production d'un plasma de grand volume homogène, de grande densité et de faible température électronique 失效用于制造具有大体积，高密度且低电子温度的均匀的等离子体的方法和装置。
公开(公告)号：EP0129490A1
公开(公告)日：1984-12-27
申请号：EP84420103.8
申请日：1984-06-14
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) , ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications)
发明人： Arnal, Yves , Pelletier, Jacques , Pomot, Claude
CPC分类号： H01J37/32192 , C23C8/36 , C23C16/511 , H01J37/32623 , H01J37/32688 , H01J37/32697 , H05H1/11
摘要： Production de plasmas.
Le procédé selon l'invention est caractérisé en ce qu'on: procède, par ondes hyperfréquences, à l'excitation d'un milieu gazeux dans une enceinte,
maintient ce plasma dans l'enceinte au moins par confinement magnétique multipolaire,
met en oeuvre des moyens propres à entretenir dans l'enceinte une pression absolue comprise entre 10 -6 et 10-' Torrs.
Application à la microélectronique.-
3.发明公开Method and apparatus for the deposition of a thin layer on a substrate by a reactive plasma 失效通过反应等离子体沉积在基底上的薄层沉积的方法和装置
公开(公告)号：EP0149408A3
公开(公告)日：1985-08-28
申请号：EP84420217
申请日：1984-12-21
申请人： ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications) , Etablissement Public dit: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： Pelletier, Jacques , Arnal, Yves , Pauleau, Yves
CPC分类号： H01J37/32623 , C23C16/50 , H01J37/32688 , H01J37/32706 , H01J37/34
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4.发明公开
公开(公告)号：EP0149408A2
公开(公告)日：1985-07-24
申请号：EP84420217.6
申请日：1984-12-21
申请人： ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications) , Etablissement Public dit: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： Pelletier, Jacques , Arnal, Yves , Pauleau, Yves
IPC分类号： C23C16/50
CPC分类号： H01J37/32623 , C23C16/50 , H01J37/32688 , H01J37/32706 , H01J37/34
摘要： Dépôt de matériau en couches minces.
- Le dispositif comprend une enceinte (1) associée à des moyens de création (13) et de confinement (11) d'un plasma homogène réactif, au moins une source (17) de matériau à déposer en couche mince et au moins un support (23) isolé électriquement de l'enceinte.
Application au dépôt en couches minces de matériaux dans le domaine de la micro-électronique.摘要翻译： 1，一种沉积在基材，导电与否，从等离子体的至少一种材料的薄层，该类型的自由In中布置外壳，在一方面中，材料中的至少一个源被沉积 在一个基片和，另一方面薄层，所述底物，在unabhängig调节源极和基片的温度，在用于所述源的电偏置提供装置，在通过对合适的装置在外壳中产生等离子体 为了相对于该源的材料的反应性气体介质的激励以产生挥发性的反应产物，在解离和通过等离子体部分电离后者与在沉积上的至少一种化合物，从挥发性的反应产物发出的基材， 其特征在于：所述等离子体被包含在所述外壳由磁围护容器布置在所述外壳内，并通过一个多极笼构成，所述基板相关联 是指适用于电偏置，和电偏压唱源极和衬底的被unabhängig调整。
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5.发明授权Procédé et dispositif d'excitation d'un plasma par micro-ondes à la résonance cyclotronique électronique 失效用于在电子循环谐振中等离子体激发的方法和装置
公开(公告)号：EP0209469B1
公开(公告)日：1990-10-24
申请号：EP86420145.4
申请日：1986-06-03
申请人： ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications) , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： Pichot, Michel , Pelletier, Jacques , Arnal, Yves
CPC分类号： H01J37/32623 , H01J37/32678 , H01J37/32688 , H05H1/11 , H05H1/18 , H05H1/46
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6.发明授权Procédé et dispositif de production d'un plasma de grand volume homogène, de grande densité et de faible température électronique 失效用于生产具有大体积，高密度和低电子温度的均匀等离子体的方法和装置
公开(公告)号：EP0129490B1
公开(公告)日：1989-05-10
申请号：EP84420103.8
申请日：1984-06-14
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) , ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications)
发明人： Arnal, Yves , Pelletier, Jacques , Pomot, Claude
CPC分类号： H01J37/32192 , C23C8/36 , C23C16/511 , H01J37/32623 , H01J37/32688 , H01J37/32697 , H05H1/11
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7.发明公开
公开(公告)号：EP0209469A1
公开(公告)日：1987-01-21
申请号：EP86420145.4
申请日：1986-06-03
申请人： ETAT FRANCAIS représenté par le Ministre des PTT (Centre National d'Etudes des Télécommunications) , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： Pichot, Michel , Pelletier, Jacques , Arnal, Yves
CPC分类号： H01J37/32623 , H01J37/32678 , H01J37/32688 , H05H1/11 , H05H1/18 , H05H1/46
摘要： Procédé et dispositif d'excitation d'un plasma par micro-ondes à la résonance cyclotronique électronique.
Le dispositif d'excitation d'un milieu gazeux par micro-ondes comprend au moins une structure coaxiale (4) pour l'introduction de la puissance micro-ondes à l'intérieur d'une structure de confinement multipolaire (100) et au moins une antenne (5) couplée à la structure coaxiale (4) pour l'introduction localisée de l'énergie micro-ondes à l'intérieur de la structure de confinement magnétique multipolaire (100) qui comprend une série d'aimants permanents (1) créant un réseau de surfaces (3) à champ magnétique constant et présentant localement une intensité correspondant à la résonance cyclotronique électronique. L'antenne (5) est positionnée sur ledit réseau de surfaces à champ magnétique constant dans une zone d'intensité correspondant à la résonance cyclotronique électronique.
Application à la création de plasma dense, de grand volume, de bonne homogénéité, isotrope et exempt de champs dans la zone d'utilisation.
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