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发明公开
SYSTEM MANAGING GAS FLOW BETWEEN CHAMBERS OF AN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) PHOTOLITHOGRAPHY APPARATUS 有权
标题翻译：系统，用于调节玻璃流EUV光刻设备的照片室之间

公开(公告)号：EP2181449A4

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：EP08795348

申请日：2008-08-15

申请人： CYMER INC

发明人： BYKANOV ALEXANDER N , BRANDT DAVID C , FOMENKOV IGOR C , PARTLO WILLIAM N

IPC分类号： G21G4/00

CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70908