公开(公告)号：EP1471539B1

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：EP03016371.1

申请日：2003-07-19

申请人： Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH

发明人： Dobschal, Hans-Jürgen ,  Greif-Wüstenbecker, Jörn ,  Brunner, Robert ,  Rosenkranz, Norbert ,  Scherübl, Thomas

IPC分类号： G21K7/00 ,  G21K1/06

CPC分类号： G21K1/06 ,  G21K7/00

公开(公告)号：EP1471539A1

公开(公告)日：2004-10-27

申请号：EP03016371.1

申请日：2003-07-19

申请人： Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH

发明人： Dobschal, Hans-Jürgen ,  Greif-Wüstenbecker, Jörn ,  Brunner, Robert ,  Rosenkranz, Norbert ,  Scherübl, Thomas

IPC分类号： G21K7/00 ,  G21K1/06

CPC分类号： G21K1/06 ,  G21K7/00

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein reflektives Abbildungssystem für ein Röntgenmikroskop zur Untersuchung eines Objektes in einer Objektebene, wobei das Objekt mit Strahlen einer Wellenlänge
Bei dem erfindungsgemäßen Abbildungssystem für ein, auf extrem ultravioletter (EUV) Strahlung basierendem Mikroskop mit Wellenlängen im Bereich
Mit der erfindungsgemäßen Anordnung wird ein Abbildungssystem zur Verfügung gestellt, welches die im Stand der Technik bekannten Nachteile vermeidet und eine hohe Abbildungsgüte gewährleistet. Der Fertigungsaufwand bleibt durch die ausschließlich Verwendung sphärischer Spiegel vertretbar.

摘要翻译： 显微镜的波长小于100nm，特别是小于30nm，即EUV（极紫外）或X射线。 显微镜可以以0.1至1000x的放大倍率进行操作。 显微镜被包含在真空室内以避免透射光的吸收。 来自物体（1）的光从第一反射镜（2）反射，第一反射镜（2）可以是稍微凹入，非球面并且可以具有约240线/ mm的反射衍射光栅。 然后光从第二反射镜（3）反射，第二反射镜（3）可以是具有约660线/ mm的衍射结构的球形凸起。 物体与中间焦点（4）之间的距离小于5米。