公开(公告)号：EP1678558A1

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：EP03782453.9

申请日：2003-12-18

申请人： Carl Zeiss SMT AG

发明人： BIEG, Hermann ,  WILL, Marcus ,  BISCHOFF, Thomas ,  KWAN, Yim-Bun, Patrick ,  NGUYEN, Uy-Liem ,  XALTER, Stefan ,  MÜHLBEYER, Michael

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B5/00

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G02B5/005 ,  G02B13/143 ,  G02B17/02 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/04 ,  G21K1/067

摘要： The invention relates to an optical imaging device, in particular an objective 1 for microlithography in the field of EUVL for producing semiconductor components, having a beam path 2, a plurality of optical elements 3 and a diaphragm device 7 with an adjustable diaphragm opening shape. The diaphragm device has a diaphragm store 7a, 7b with a plurality of different diaphragm openings 6 with fixed shapes in each case, which can be introduced into the beam path 2.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学成像装置，尤其是用于EUVL领域中用于微光刻的物镜（1），用于制造具有光束路径（2），多个光学元件（3）和光圈装置（7）的光路（2） 具有可调膜片开口形状。 光阑装置具有光阑存储器（7a，7b），光阑存储器（7a，7b）具有分别具有固定形状的多个不同的光阑开口（6），这些光阑开口可以被引入到光束路径（2）中。