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    Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils
    1.
    发明公开
    Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils 有权
    照明光学器件，用于EUV投射微光刻投射曝光设备和方法，用于制造微结构元件

    公开(公告)号：EP1927892A1

    公开(公告)日：2008-06-04

    申请号：EP07020745.1

    申请日：2007-10-24

    申请人： Carl Zeiss SMT AG

    发明人： Warm, Berndt ,  Dengel, Günther

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116

    摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Mikrolithographie hat neben einer Projektionsoptik zur Abbildung eines Beleuchtungsfeldes in einer Retikelebene in ein Bildfeld in einer Bildebene noch eine EUV-Lichtquelle sowie eine Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes. Die Beleuchtungsoptik hat einen Feldfacetten-Spiegel mit einer Mehrzahl von Feldfacetten zur Erzeugung von sekundären Lichtquellen, wobei die Feldfacetten jeweils Teilbündeln der EUV-Strahlung zugeordnet sind. Weiterhin hat die Beleuchtungsoptik einen Pupillenfacetten-Spiegel am Ort der vom Feldfacetten-Spiegel erzeugten sekundären Lichtquellen mit einer Mehrzahl von Pupillenfacetten, die über die ihnen zugeordneten Feldfacetten mit EUV-Strahlung beaufschlagt werden. Der Pupillenfacetten-Spiegel ist Teil einer optischen Einrichtung, die den Feldfacetten-Spiegel in die Retikelebene abbildet. Der Feldfacetten-Spiegel ist in Untereinheiten (50, 51) unterteilt, die ihrerseits Feldfacetten-Gruppen (19, 26) mit je mindestens einer Feldfacette (11) aufweisen. Eine Wechseleinrichtung (56) ist zum Austausch mindestens einer der Untereinheiten (50,51) des Feldfacetten-Spiegels gegen mindestens eine Wechsel-Untereinheit (57, 58) vorgesehen. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage, bei der ein Wechsel zwischen verschiedenen Beleuchtungssettings mit geringerem konstruktiven Aufwand möglich ist.

    摘要翻译： 光学器件（6）具有一个分面镜（10）包括一组被配置为产生在照明场，其中每个刻面被分配给辐射的部分光束的限定的照明设置的小平面。 所述分面镜包括子单元，它们是由小面团。 甲改变装置（44）互换对可互换子单元的分面镜的子单元中的一个。 光瞳分面镜（13）位于由所述分面镜产生的二次光源的附近，其中该光瞳分面镜的图像中的分划板平面上的分面镜。 因此独立权利要求中包括了以下内容：用于制造微结构部件（2）的微结构化的组分（1）的方法。