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    METHODS AND DEVICES FOR DRIVING MICROMIRRORS
    1.
    发明授权
    METHODS AND DEVICES FOR DRIVING MICROMIRRORS 有权

    公开(公告)号：EP3193203B1

    公开(公告)日：2018-08-29

    申请号：EP17157830.5

    申请日：2009-10-06

    申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

    发明人： Horn, Jan ,  Kempter, Christian

    IPC分类号： G02B26/08 ,  G02B27/00 ,  G03F7/20 ,  G03B27/72

    CPC分类号： G03F7/70116 ,  G02B26/0841 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/72 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70525

    摘要： A micromirror (24) of a micromirror array (22) in an illumination system (10) of a microlithographic projection exposure apparatus can be tilted through a respective tilt angle (± x , ± y ) about two tilt axes (x, y). The micromirror (24) is assigned three actuators (E 1 , E 2 , E 3 ) which can respectively be driven by control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) in order to tilt the micromirror (24) about the two tilt axes (x, y). Two control variables (SG x , SG y ) are specified, each of which is assigned to one tilt axis (x, y) and which are both assigned to unperturbed tilt angles (± x , ± y ). For any desired combinations of the two control variables (SG x , SG y ), as a function of the two control variables (SG x , SG y ), one (E 1 ) of the three actuators is selected and its control signal (U 1 ) is set to a constant value, in particular zero. The control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) are determined so that, when the control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) are applied to the other two actuators (E 2 , E 3 ), the micromirror (24) adopts the unperturbed tilt angles (± x , ± y ) as a function of the two control variables (SG x , SG y ).

    OPTISCHES MODUL MIT VERKIPPBAREN OPTISCHEN FLÄCHEN
    2.
    发明公开
    OPTISCHES MODUL MIT VERKIPPBAREN OPTISCHEN FLÄCHEN 审中-公开
    具有可倾斜光学表面的光学模块

    公开(公告)号：EP3296787A1

    公开(公告)日：2018-03-21

    申请号：EP17182236.4

    申请日：2017-07-20

    申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

    发明人： Weber, Ulrich ,  Nefzi, Marwene

    IPC分类号： G02B7/182 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70116 ,  G02B7/1822 ,  G03F7/70075

    摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel, mit einer Trägereinheit (112) für eine optische Fläche und einer Stützstruktur (113), wobei die Trägereinheit (112) durch die Stützstruktur (113) abgestützt ist. Die Stützstruktur (113) weist eine Basiseinheit (114), eine erste Stützeinheit und eine von der ersten Stützeinheit (115) verschiedene zweite Stützeinheit (116) auf. Die erste Stützeinheit (115) ist zwischen der Basiseinheit (114) und der Trägereinheit (112) angeordnet und definiert eine erste Bewegungsebene und eine erste Kippachse der Trägereinheit (112), wobei die erste Kippachse senkrecht zu der ersten Bewegungsebene verläuft und die Trägereinheit (112) relativ zu der Basiseinheit (114) um die erste Kippachse verkippbar ist. Die zweite Stützeinheit (116) ist zwischen der Basiseinheit (114) und der Trägereinheit (112) angeordnet und definiert eine zweite Bewegungsebene und eine zweite Kippachse der Trägereinheit (112), wobei die zweite Kippachse senkrecht zu der zweiten Bewegungsebene verläuft, die Trägereinheit (112) relativ zu der Basiseinheit (114) um die zweite Kippachse verkippbar ist und die zweite Kippachse zu der ersten Kippachse geneigt verläuft. Die erste Stützeinheit (115) und die zweite Stützeinheit (116) sind zueinander kinematisch parallel zwischen der Basiseinheit (114) und der Trägereinheit (112) angeordnet, wobei die erste Stützeinheit (115) und die zweite Stützeinheit (116) jeweils nach Art eines Viergelenkgetriebes ausgebildet sind, das eine translatorische Bewegung der Trägereinheit (112) relativ zu der Basiseinheit (114) in der jeweiligen Bewegungsebene zulässt. Die erste Stützeinheit (115) und die zweite Stützeinheit (116) weisen jeweils wenigstens einen Entkopplungsabschnitt auf, der die translatorische Bewegung in der Bewegungsebene der jeweils anderen Stützeinheit (116, 115) zulässt.

    摘要翻译： 本发明涉及包括光学表面支撑单元（112）和支撑结构（113）的光学模块，特别是分面镜，支撑单元（112）由支撑结构（113）支撑。 支撑结构（113）包括基座单元（114），不同于第一支撑单元（115）的第一支撑单元和第二支撑单元（116）。 第一支撑单元（115）布置在所述基座单元（114）和所述载体部（112）之间，并限定第一运动平面和支撑单元（112），其中，所述第一倾斜轴线垂直于运动的第一平面与所述支撑单元的第一倾斜轴线（112 ）可相对于基座单元（114）围绕第一倾斜轴线倾斜。 第二支撑单元（116）布置在所述基座单元（114）和所述载体部（112）和限定第二运动平面和支撑单元（112）的第二倾斜轴线之间，所述第二倾斜轴垂直于运动的第二平面，载波单元（112 ）可相对于基座单元（114）围绕第二倾斜轴线倾斜，并且第二倾斜轴线相对于第一倾斜轴线倾斜。 第一支撑单元（115）和第二支撑单元（116）被布置成彼此运动学在基本单元（114）和所述支撑部（112）之间，平行，其中，所述第一支撑单元（115）和在一个四杆机构的方式在每种情况下，第二支撑单元（116） 形成，其允许承载单元（112）相对于基座单元（114）在相应的运动平面中平移运动。 第一支撑单元（115）和第二支撑单元（116）各自具有至少一个解耦部分，该解耦部分允许相应的另一个支撑单元（116,115）的移动平面内的平移运动。

    ILLUMINATION DEVICE FOR PROJECTION MASK ALIGNER AND APPLICATION METHOD
    4.
    发明公开
    ILLUMINATION DEVICE FOR PROJECTION MASK ALIGNER AND APPLICATION METHOD 有权
    BELEUCHTUNGSVORRICHTUNGFÜRPROJEKTIONSMASKENAUSRICHTER UND ANWENDUNGSVERFAHREN

    公开(公告)号：EP3023838A4

    公开(公告)日：2017-06-21

    申请号：EP13889451

    申请日：2013-08-26

    申请人： SHANGHAI INST OPTICS & FINE MECH CAS

    发明人： ZENG AIJUN ,  ZHANG YUNBO ,  CHEN MINGXING ,  WANG YING ,  HUANG HUIJIE

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B27/09

    CPC分类号： G03F7/702 ,  G02B3/0006 ,  G02B5/005 ,  G02B26/0833 ,  G02B26/105 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7025

    摘要： An illumination device comprising a laser source, a beam expander, a micromirror array having a first control system, a fast steering mirror having a second control system, a diaphragm array, a microlens array, an illumination lens group, and a reflection mirror sequentially along the propagation direction of the laser beam. The first control system comprises a first computer controlling each micromirror on the micro-mirror array through the micromirror array controller to rotate in two-dimensional directions so expanded beam forms desired intensity patterns on the diaphragm array after reflected by the micromirror array and fast reflection mirror and a micromirror array controller; the second control system comprises a second computer controlling the reflection mirror of the fast steering mirror to rotate through fast steering mirror controller so created intensity pattern moves relative to the diaphragm array and a fast steering mirror controller. Method for using the illumination device is provided.

    摘要翻译： 一种照明装置，包括激光源，扩束器，具有第一控制系统的微镜阵列，具有第二控制系统的快速转向镜，光阑阵列，微透镜阵列，照明透镜组和反射镜， 激光束的传播方向。 所述第一控制系统包括第一计算机，所述第一计算机通过所述微镜阵列控制器控制所述微镜阵列上的每个微镜以在二维方向上旋转，因此扩展光束在由所述微镜阵列和快速反射镜反射后在所述光阑阵列上形成期望强度图案 和微镜阵列控制器; 第二控制系统包括控制快速转向镜的反射镜旋转通过快速转向镜控制器的第二计算机，由此创建的强度图相对于光阑阵列和快速转向镜控制器移动。 提供了使用该照明装置的方法。

    Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
    5.
    发明授权
    Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 有权
    微光刻投影曝光设备的照明系统

    公开(公告)号：EP2876499B1

    公开(公告)日：2017-05-24

    申请号：EP14155686.0

    申请日：2014-02-19

    申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

    发明人： Degünther, Markus ,  Davydenko, Vladimir ,  Korb, Thomas ,  Schlesener, Frank ,  Hilt, Stefanie ,  Högele, Wolfgang

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08

    CPC分类号： G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

    摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical integrator (60) having a plurality of light entrance facets (75) each being associated with a secondary light source (106). A spatial light modulator (52) has a light exit surface (57) and transmit or to reflect impinging projection light in a spatially resolved manner. A pupil forming unit (36) directs projection light on the spatial light modulator. An objective (58) images the light exit surface (57) of the spatial light modulator (52) onto the light entrance facets (75) of the optical integrator (60). The light exit surface (57) of the optical light modulator (52) comprises groups (54-1 to 54-8) of object areas (110) being separated by areas (130) that are not imaged on the light entrance facets (75). The objective (58) combines images (110') of the object areas (110) so that the images (110') of the object areas abut on the optical integrator (60).

    摘要翻译： 微光刻投影曝光设备（10）的照明系统包括具有多个光入射面（75）的光学积分器（60），每个光入射面与次要光源（106）相关联。 空间光调制器（52）具有光出射表面（57）并以空间分辨的方式透射或反射入射投射光。 瞳孔形成单元（36）将投射光引导到空间光调制器上。 物镜（58）将空间光调制器（52）的光出射面（57）成像到光学积分器（60）的光入射面（75）上。 光学光调制器（52）的光出射表面（57）包括被区域（130）分隔的物体区域（110）的组（54-1到54-8），区域（130）在光入射小平面 ）。 物镜（58）组合物体区域（110）的图像（110'），使得物体区域的图像（110'）邻接光学积分器（60）。

    ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    6.
    发明授权
    ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
    光学照明设备，曝光装置及设备的位置，RATHER程序

    公开(公告)号：EP2518565B1

    公开(公告)日：2016-06-08

    申请号：EP12177990.4

    申请日：2008-11-06

    申请人： Nikon Corporation

    发明人： Muramatsu, Kouji

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70116 ,  G03F7/70075

    摘要： This invention relates to an illumination optical apparatus capable of forming a pupil intensity distribution of a desired shape and desired illuminance and, in turn, capable of realizing illumination conditions of great variety. The illumination optical apparatus has a spatial light modulation unit (2, 3) composed of a first spatial light modulator (2) and a second spatial light modulator (3) arranged in an order of incidence of light, and a distribution forming optical system (5, 7) to form a predetermined light intensity distribution on an illumination pupil, based on a beam having traveled via the first spatial light modulator (2) and the second spatial light modulator 83). The first spatial light modulator (2) has a plurality of first optical elements (2a) which are two- dimensionally arranged and postures of which each are individually controlled. The second spatial light modulator has a plurality of second optical elements which are two-dimensionally arranged in correspondence to the first optical elements and postures of which each are individually controlled.

    Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
    10.
    发明公开
    Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 有权
    百科全书系列

    公开(公告)号：EP2876498A1

    公开(公告)日：2015-05-27

    申请号：EP14155685.2

    申请日：2014-02-19

    申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

    发明人： Degünther, Markus ,  Davydenko, Vladimir ,  Korb, Thomas ,  Schlesener, Frank ,  Hilt, Stefanie ,  Högele, Wolfgang

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08

    CPC分类号： G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

    摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical integrator (60) having a plurality of light entrance facets (75), whose images at least substantially superimpose in a mask plane (88). A spatial light modulator (52) transmits or reflects impinging projection light in a spatially resolved manner. A pupil forming unit directs projection light on the spatial light modulator. An objective (58) images a light exit surface (57) of the spatial light modulator (52) onto the light entrance facets (75) of the optical integrator (60) so that an image (110') of an object area (110) on the light exit surface (57) completely coincides with one of the light entrance facets (75). A control unit (90) controls the spatial light modulator (52) such that along a scan direction (Y) a length of an image, which is formed on a mask (16) from a light pattern in the object area, gradually increases at a beginning of a scan cycle and gradually decreases at the end of the scan cycle.

    摘要翻译： 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括具有多个光入射面（75）的光学积分器（60），其图像至少基本上叠加在掩模平面（88）中。 空间光调制器（52）以空间分辨的方式透射或反射入射的投影光。 光瞳形成单元将投射光引导到空间光调制器上。 目标（58）将空间光调制器（52）的光出射表面（57）成像到光学积分器（60）的光入射面（75）上，使得物体区域（110）的图像（110'） ）与光入射面（75）之一完全重合。 控制单元（90）控制空间光调制器（52），使得沿着扫描方向（Y），从物体区域中的光图案形成在掩模（16）上的图像的长度在 扫描周期的开始，并在扫描周期结束时逐渐减少。