公开(公告)号：EP2321701A2

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：EP09810440.9

申请日：2009-08-10

申请人： D2S, Inc.

发明人： FUJIMURA, Akira ,  GLASSER, Lance ,  MITSUHASHI, Takashi ,  HAGIWARA, Kazuyuki

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F1/16

CPC分类号： G03F7/2037 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/68 ,  H01J37/3174

摘要： A method and system for manufacturing a surface having a multiplicity of slightly different patterns is disclosed. The method comprises using a stencil mask having a set of characters for forming the patterns on the surface and reducing shot count or total write time by use of a character varying technique. Application of such a method to fracturing, mask data preparation, or proximity effect correct is also disclosed. A method for optical proximity correction of a design of a pattern on a surface is also disclosed, comprising inputting desired patterns for the substrate and inputting a set of characters, some of which are complex characters, that may be used to form the pattern on the surface. A method of creating glyphs is also disclosed.

摘要翻译： 一种用于制造具有大量微小差别图案的多个表面的方法和系统游离缺失盘。 该方法包括使用具有一组字符的表面上形成图案和通过使用字符改变技术的减少拍数或总写入时间模板掩模。 寻求压裂，掩模数据准备，或邻近效应正确gibt游离缺失盘的方法中的应用。 包括输入希望的图形的基板和输入一组字符，其中的一些是复杂字符，也可使用一种用于在表面gibt盘上的图案游离缺失，的设计的光学邻近校正的方法，以在该图案 表面。 创建字形gibt游离缺失盘的方法。