公开(公告)号：EP3027709A4

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：EP14832434

申请日：2014-07-31

申请人： ENTEGRIS INC

发明人： CHEN LI-MIN ,  LIPPY STEVEN ,  WHITE DANIELA ,  COOPER EMANUEL I

IPC分类号： H01L21/3213 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311

CPC分类号： B81C1/00539 ,  C09K13/08 ,  C09K13/10 ,  G03F7/405 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134

摘要： Compositions useful for the selective removal of titanium nitride and/or photoresist etch residue materials relative to metal conducting, e.g., tungsten, and insulating materials from a microelectronic device having same thereon. The removal compositions are low pH and contain at least one oxidizing agent and at least one etchant as well as corrosion inhibitors to minimize metal erosion and passivating agents to protect dielectric materials.

摘要翻译： 组合物用于从其上具有相同的微电子器件中选择性地除去氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残留物的材料相对于金属导电，E. G.，钨，和绝缘材料是有用的。 的除去组合物是低pH值和含有至少一种氧化剂和至少一种蚀刻剂以及腐蚀抑制剂，以尽量减少金属腐蚀和负债婷剂，以保护介电材料。