公开(公告)号：EP3731258A1

公开(公告)日：2020-10-28

申请号：EP20178775.1

申请日：2009-09-22

申请人： EV Group E. Thallner GmbH

发明人： Figura, Daniel

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/68 ,  H01L21/67

摘要： Vorrichtung zum Ausrichten einer ersten Kontaktfläche (1k) eines auf einer ersten Plattform (10) aufnehmbaren ersten Substrats (1) mit einer zweiten Kontaktfläche (2k) eines auf einer zweiten Plattform (20) aufnehmbaren zweiten Substrats (2) mit folgenden Merkmalen:
- erste X-Y-Positionen von entlang der ersten Kontaktfläche (1k) angeordneten ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) sind durch erste Erfassungsmittel (7, 7') in einer ersten X-Y-Ebene (5) in einem ersten, von einer Bewegung des ersten Substrats (1) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- zweite X-Y-Positionen von entlang der zweiten Kontaktfläche (2k) angeordneten, zu den ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) korrespondierenden zweiten Ausrichtungsschlüsseln (4.1 bis 4.n) sind durch zweite Erfassungsmittel (8, 8') in einer zweiten, zur ersten X-Y-Ebene (5) parallelen X-Y-Ebene (6) in einem zweiten, von einer Bewegung des zweiten Substrats (2) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- die erste Kontaktfläche (1k) ist auf Grundlage der ersten X-Y-Positionen in einer ersten Ausrichtungsposition und die zweite Kontaktfläche (2k) ist auf Grundlage der zweiten X-Y-Positionen in einer zweiten Ausrichtungsposition ausrichtbar.

公开(公告)号：EP2299472B1

公开(公告)日：2020-07-08

申请号：EP09012023.9

申请日：2009-09-22

申请人： EV Group E. Thallner GmbH

发明人： Figura, Daniel

IPC分类号： H01L21/68 ,  H01L21/67

公开(公告)号：EP2299472A1

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：EP09012023.9

申请日：2009-09-22

申请人： EV Group E. Thallner GmbH

发明人： Figura, Daniel

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/68

摘要： Vorrichtung zum Ausrichten einer ersten Kontaktfläche (1k) eines auf einer ersten Plattform (10) aufnehmbaren ersten Substrats (1) mit einer zweiten Kontaktfläche (2k) eines auf einer zweiten Plattform (20) aufnehmbaren zweiten Substrats (2) mit folgenden Merkmalen:
- erste X-Y-Positionen von entlang der ersten Kontaktfläche (1k) angeordneten ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) sind durch erste Erfassungsmittel (7, 7') in einer ersten X-Y-Ebene (5) in einem ersten, von einer Bewegung des ersten Substrats (1) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- zweite X-Y-Positionen von entlang der zweiten Kontaktfläche (2k) angeordneten, zu den ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) korrespondierenden zweiten Ausrichtungsschlüsseln (4.1 bis 4.n) sind durch zweite Erfassungsmittel (8, 8') in einer zweiten, zur ersten X-Y-Ebene (5) parallelen X-Y-Ebene (6) in einem zweiten, von einer Bewegung des zweiten Substrats (2) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- die erste Kontaktfläche (1k) ist auf Grundlage der ersten X-Y-Positionen in einer ersten Ausrichtungsposition und die zweite Kontaktfläche (2k) ist auf Grundlage der zweiten X-Y-Positionen in einer zweiten Ausrichtungsposition ausrichtbar.
Verfahren zum Ausrichten einer ersten Kontaktfläche eines auf einer ersten Plattform aufnehmbaren ersten Substrats mit einer zweiten Kontaktfläche eines auf einer zweiten Plattform aufnehmbaren zweiten Substrats mit folgenden Schritten:
- Anordnung der ersten Kontaktfläche in einer ersten X-Y-Ebene und der zweiten Kontaktfläche in einer zweiten, zur ersten X-Y-Ebene parallelen X-Y-Ebene,
- Erfassung von X-Y-Positionen von entlang der ersten Kontaktfläche angeordneten ersten Ausrichtungsschlüsseln in einem ersten, von einer Bewegung des ersten Substrats unabhängigen X-Y-Koordinatensystem durch erste Erfassungsmittel und Erfassung von X-Y-Positionen von entlang der zweiten Kontaktfläche angeordneten zweiten, zu den ersten Ausrichtungsschlüsseln korrespondierenden Ausrichtungsschlüsseln in einem zweiten, von einer Bewegung des zweiten Substrats unabhängigen X-Y-Koordinatensystem durch zweite Erfassungsmittel,
- Ausrichtung der ersten Kontaktfläche in einer auf Grundlage der ersten X-Y-Positionen ermittelten ersten Ausrichtungsposition und Ausrichtung der zweiten Kontaktfläche in einer gegenüberliegend zu der ersten Kontaktfläche liegenden, auf Grundlage der zweiten X-Y-Positionen ermittelten zweiten Ausrichtungsposition,

摘要翻译： 该装置具有检测单元（7），即激光推测器，检测沿着接触表面布置的对准键的X-Y位置。 其他检测单元（8）检测与前一个键相对应的另一对准键的其它X-Y位置并且沿着另一个接触表面布置。 后者的检测单元设置在笛卡尔X-Y坐标系中的X-Y级，其独立于衬底（2）之一的移动。 这些表面分别对准在基于前者和后面的X-Y位置确定的对准位置。 还包括用于将衬底的接触表面与另一衬底的另一个接触表面对准的方法的独立权利要求。