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发明公开
REPAIRING DEFECTS ON PHOTOMASKS USING A CHARGED PARTICLE BEAM AND TOPOGRAPHICAL DATA FROM A SCANNING PROBE MICROSCOPE 审中-公开
标题翻译：缺陷出现光掩模修理的带电粒子和地形的DATA FROM的扫描探针显微镜

公开(公告)号：EP1534873A4

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：EP03785301

申请日：2003-08-08

申请人： FEI CO

发明人： FERRANTI DAVID C , RAY VALERY , SMITH GERALD , MUSIL CHRISTIAN R

IPC分类号： B05D3/06 , C23C14/22 , C23C14/28 , C23C14/58 , G03F20060101 , G03F1/74 , H01L21/027

CPC分类号： G03F1/74