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发明公开
Optically transparent and electrically conductive coatings and method for their deposition on a substrate 审中-公开
标题翻译：光学透明且导电的涂层和方法用于其在衬底上沉积

公开(公告)号：EP2581789A1

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：EP11185280.2

申请日：2011-10-14

申请人： Fundació Institut de Ciències Fotòniques , Institució Catalana de Recerca i Estudis Avançats , Carl Zeiss SMS GmbH

发明人： Pruneri, Valerio , Carrilero, Alberto , Peters, Jan-Hendrik

IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/38

CPC分类号： G03F1/22 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/146 , G03F1/38

摘要： The present inventions relates to a substrate for a photolithographic mask comprising a coating deposited on a rear surface of the substrate, wherein the coating comprises (a) at least one electrically conducting layer, and (b) wherein a thickness of the at least one layer is smaller than 30 nm, preferably smaller than 20 nm, and most preferably smaller than 10 nm.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于光刻掩模包括沉积在基片的后表面上的涂层的基材，worin该涂层包括（a）至少一个导电层，和（b）worin的厚度，所述至少一个层的是小于30nm，优选小于20nm，并且最优选小于10纳米。