Lichtempfindliche Dialkoxybenzoldiazoniumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
    2.
    发明公开
    Lichtempfindliche Dialkoxybenzoldiazoniumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung 失效
    感光Dialkoxybenzoldiazoniumverbindung,其制备方法及其用途。

    公开(公告)号:EP0333005A1

    公开(公告)日:1989-09-20

    申请号:EP89104058.6

    申请日:1989-03-08

    IPC分类号: G03C1/54

    CPC分类号: G03C1/54

    摘要: Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Dialkoxy­benzoldiazoniumverbindung der allgemeinen Formel I
    in der
    R₁ verzweigtes oder unverzweigtes (C₁-C₄)Alkyl und
    R₂ gegebenenfalls durch (C₁-C₂)-Alkyl-substituiertes Thiophenyl, die N-Morpholino- bzw. N-Piperidino-­Gruppe
    bedeuten und ein Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Ver­bindung wird als aktive Komponente in lichtempfindlichen Diazotypiematerialien verwendet.

    摘要翻译: 本发明涉及以下通式的光敏dialkoxybenzenediazonium化合物I 其中R1是支链的或无支链(C1-C4)烷基和R 2是任选的(C1-C2)烷基 - 噻吩基substituiertem或N- 吗啉代或N-哌啶子基,并且涉及其制备方法。 该化合物被用作光敏材料diazotype活性组分。

    Verfahren zur Herstellung eines o-Naphtochinondiazidsulfonsäureesters
    3.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung eines o-Naphtochinondiazidsulfonsäureesters 失效
    制备邻萘醌二叠氮磺酸酯的方法

    公开(公告)号:EP0258727A1

    公开(公告)日:1988-03-09

    申请号:EP87111920.2

    申请日:1987-08-18

    IPC分类号: C07C309/72 G03F7/022

    摘要: Die Erfindung betrifft die Herstellung eines o-Naphtho­chinondiazidsulfonsäureesters durch Veresterung eines o-­Naphthochinondiazidsulfonsäurehalogenids, mit einer ein-oder mehrwertigen phenolischen Verbindung in einem Lö­sungsmittel in Gegenwart einer basischen Komponente, Aus­fällen des Esters und Trocknen, wobei die Veresterung in Gegenwart von Ammoniak, Ammoniumsalzen schwacher Säuren oder von aliphatischen Abkömmlingen des Ammoniaks mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen bei einem p H -Wert im Bereich zwischen etwa 1,5 und etwa 8,5 und bei einer Temperatur im Bereich zwischen etwa 15 und etwa 40 °C durchgeführt wird. Die erhaltenen Ester der o-Naphthochinondiazidsulfonsäure enthalten nur noch geringe Mengen an Metallionen und sind für lichtempfindliche Gemische einsetzbar, die hohen Anfor­derungen der Mikroelektronik genügen.

    摘要翻译: 本发明涉及通过一个O形Naphthochinondiazidsulfonsäurehalogenids的酯化制备的O型Naphthochinondiazidsulfonsäureesters的为,通过在溶剂中,在基本部件,所述酯和干燥沉淀的存在的一元或多元酚类化合物,其中,所述酯化在氨的存在下,弱酸的铵盐 或通过在具有范围约1.5至约8.5之间的温度范围内的pH值1〜3个碳原子的氨的脂族衍生物约15至约40℃之间进行 将所得的邻重氮萘醌磺酸酯含有仅少量的金属离子和可用于满足微电子要求高感光的混合物。

    Lichtempfindliche Diazoniumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
    4.
    发明公开
    Lichtempfindliche Diazoniumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung 失效
    光敏二氧化钛化合物及其制备方法及其使用

    公开(公告)号:EP0333004A3

    公开(公告)日:1991-09-25

    申请号:EP89104057.8

    申请日:1989-03-08

    IPC分类号: C07C113/04 G03C1/54

    摘要: Die Erfindung betrifft eine neue lichtempfindliche Diazoniumver­bindung der allgemeinen Formel I
    in der R₁ und R₂ gleich oder verschieden sind und
    R₁ Methyl, Ethyl oder 2-Hydroxyethyl und
    R₂ Methyl oder Ethyl oder
    R₁ und R₂ gemeinsam eine (CH₂) n Gruppierung über dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, mit n gleich 4 oder 5 und
    R₃ Wasserstoff oder Methyl bedeuten. Die Erfindung be­trifft ferner ein Verfahren zur Herstellung der lichtemp­findlichen Diazoniumverbindung. Die Verbindungen finden insbesondere in lichtempfindlichen Diazotypiematerialien Verwendung.

    摘要翻译: R 1和R 2相同或不同并且R 1表示甲基,乙基或2-羟基乙基,R 2表示甲基或乙基,或者R 1和R 2一起表示(CH 2)2的通式I 的新型光敏重氮化合物, n基团通过它们键合的氮原子,其中n等于4或5,并且R 3表示氢或甲基,以及制备感光重氮化合物的方法。 该化合物特别用于光敏二氮类材料。

    Gemisch überwiegend mehrkerniger polyfunktioneller Phenole und seine Verwendung
    5.
    发明公开
    Gemisch überwiegend mehrkerniger polyfunktioneller Phenole und seine Verwendung 失效
    Gemischüberwiegendmehrkerniger polyfunktioneller Phenole und seine Verwendung。

    公开(公告)号:EP0429954A1

    公开(公告)日:1991-06-05

    申请号:EP90121784.4

    申请日:1990-11-14

    IPC分类号: C07C39/15 C07C37/70 G03C1/52

    CPC分类号: G03C1/58 C07C39/08 C07C39/15

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Gemisch überwiegend mehrkerni­ger polyfunktioneller Phenole, hergestellt durch Lösen des bei der Resorcinherstellung anfallenden Destillationsrückstands in polaren organischen Lösungs­mitteln und/oder Wasser sowie Reinigung der erhaltenen Lösung durch Aktivkohlefiltration gegebenenfalls unter Zusatz von Filterhilfsmitteln, vorzugsweise unter Zusatz von 5 - 20 Gewichtsprozent Resorcin, bezogen auf den ein­gesetzten Destillationsrückstand.
    Das Gemisches wird als Kupplungskomponente zur Herstel­lung von lichtempfindlichen Diazotypiematerialien, insbe­sondere in Zweikomponenten-Diazotypiematerialien verwen­det.
    Das Gemisch wird aus dem Abfall der Resorcindarstellung erhalten und wird als Kupplungskomponente in Diazotypie­materialien verwendet.

    摘要翻译: 本发明涉及通过溶解在间苯二酚制备过程中形成的蒸馏残留物在极性有机溶剂和/或水中制备的主要多核多官能酚和通过活性炭过滤获得的溶液的纯化制备的多核多官能酚的混合​​物,如果需要,通过加入过滤助剂, 优选相对于所使用的蒸馏残渣添加5-20重量%的间苯二酚。 该混合物用作用于生产光敏二氮型材料的偶联组分,特别是双组分重氮型材料。 该混合物是从间苯二酚制剂的废物中获得的,并且用作二嗪类材料中的偶联组分。

    Lichtempfindliche Diazoniumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
    6.
    发明公开
    Lichtempfindliche Diazoniumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung 失效
    Lichtempfindliche Diazoniumverbindung,Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung。

    公开(公告)号:EP0333004A2

    公开(公告)日:1989-09-20

    申请号:EP89104057.8

    申请日:1989-03-08

    IPC分类号: C07C113/04 G03C1/54

    摘要: Die Erfindung betrifft eine neue lichtempfindliche Diazoniumver­bindung der allgemeinen Formel I
    in der R₁ und R₂ gleich oder verschieden sind und
    R₁ Methyl, Ethyl oder 2-Hydroxyethyl und
    R₂ Methyl oder Ethyl oder
    R₁ und R₂ gemeinsam eine (CH₂) n Gruppierung über dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, mit n gleich 4 oder 5 und
    R₃ Wasserstoff oder Methyl bedeuten. Die Erfindung be­trifft ferner ein Verfahren zur Herstellung der lichtemp­findlichen Diazoniumverbindung. Die Verbindungen finden insbesondere in lichtempfindlichen Diazotypiematerialien Verwendung.

    摘要翻译: R 1和R 2相同或不同并且R 1表示甲基,乙基或2-羟基乙基,R 2表示甲基或乙基,或者R 1和R 2一起表示(CH 2)2的通式I 的新型光敏重氮化合物, n基团通过它们键合的氮原子,其中n等于4或5,并且R 3表示氢或甲基,以及制备感光重氮化合物的方法。 该化合物特别用于光敏二氮类材料。