公开(公告)号：EP3138636A1

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：EP15183600.4

申请日：2015-09-03

申请人： Haas Food Equipment GmbH

发明人： HAAS, Johannes ,  HAAS, Josef ,  JIRASCHEK, Stefan ,  KALLER, Martin ,  SACHSENHOFER, Johann ,  HAIDENBAUER, Bernhard

IPC分类号： B08B7/00 ,  A21B3/16 ,  A21B5/02 ,  B23K26/067 ,  B23K26/10 ,  B23K26/16 ,  B23K26/082

CPC分类号： B08B7/0042 ,  A21B3/16 ,  A21B5/023 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/082 ,  B23K26/36

摘要： Anordnung und Laseranordnung zum Reinigen von reliefartig ausgestalteten Backoberflächen (1) und gegebenenfalls zum Reinigen von Dampf- und/oder Dichtleisen (2) von Backplatten (3) einer Backmaschine (4), umfassend:
- eine Laserquelle (5) zur Ausgabe eines Laserstrahls (6) auf einen örtlich wählbaren Zielbereich (7) durch fortlaufende Änderung der Ausgaberichtung des Laserstrahls (6) und Abfahren einer den Zielbereich (7) bildenden Kontur (8),
- eine entfernt von der Laserquelle (5) und im Zielbereich (7) der Laserquelle (5) angeordnete Umlenkoptik (9) zur Umlenkung des Laserstrahls (6) und zur Projektion des durch die Kontur (8) gebildeten Zielbereichs (7) auf die zu reinigende Backplatte (3) entlang einer Projektionsrichtung (10),

dadurch gekennzeichnet, dass die Umlenkoptik (9) eine Verstellmöglichkeit zur Veränderung der Projektionsrichtung (10) und der Austrittsrichtung des Laserstrahls (6) aufweist.

摘要翻译： 用于清洁浮雕式烘烤表面（1）并且可能用于清洁烘焙机（4）的烘烤板（3）的蒸发和/或密封条（2）的布置和激光布置，包括：激光源（5），用于 通过连续地改变激光束（6）的发射方向并跟踪形成目标区域（7）的轮廓（8），将激光束（6）发射到位置可选择的目标区域（7）上;偏转光学单元 9），其远离激光源（5）和激光源（5）的目标区域（7）布置，并且用于偏转激光束（6）并用于投影形成的目标区域（7） 通过轮廓（8）沿着待清洁的烘烤板（3）上的突出方向（10），其特征在于，偏转光学单元（9）具有改变投影方向（10）和 激光束的出现方向（6）。

公开(公告)号：EP3344403A1

公开(公告)日：2018-07-11

申请号：EP16760472.7

申请日：2016-09-02

申请人： Haas Food Equipment GmbH

发明人： HAAS, Johannes ,  HAAS, Josef ,  JIRASCHEK, Stefan ,  KALLER, Martin ,  SACHSENHOFER, Johann ,  HAIDENBAUER, Bernhard

IPC分类号： B08B7/00 ,  A21B3/16 ,  A21B5/02 ,  B23K26/067 ,  B23K26/10 ,  B23K26/16 ,  B23K26/082

CPC分类号： B08B7/0042 ,  A21B3/16 ,  A21B5/023 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/082 ,  B23K26/36

摘要： Arrangement and laser arrangement for cleaning relief-like baking surfaces (1) and possibly for cleaning evaporation and/or sealing strips (2) of baking plates (3) of a baking machine (4), comprising: a laser source (5) for emitting a laser beam (6) onto a locationally selectable target area (7) by continuously changing the direction of emission of the laser beam (6) and tracking a contour (8) forming the target area (7), a deflecting optical unit (9), which is arranged away from the laser source (5) and in the target area (7) of the laser source (5) and is intended for deflecting the laser beam (6) and for projecting the target area (7) formed by the contour (8) along a direction of projection (10) onto the baking plate (3) to be cleaned, characterized in that the deflecting optical unit (9) has a possibility of adjustment for changing the direction of projection (10) and the direction of emergence of the laser beam (6).