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公开(公告)号:EP0756019A2
公开(公告)日:1997-01-29
申请号:EP96106120.7
申请日:1996-04-18
CPC分类号: C23C14/0641 , C23C14/024 , C23C14/028 , C23C14/0623
摘要: Es wird eine PVD-Hartstoffbeschichtung beschrieben, bei der eine vorbehandelte, mit Löchern oder Hohlräumen versehene TiAlN-Schicht mechanisch geglättet und dann einer zweiten PVD-Beschichtung mit MoS 2 unterzogen wird.
摘要翻译: 通过ABS方法或组合阴极电弧放电和阴极溅射法或者只是阴极电弧放电蒸汽法,在基板上形成厚度为1-5μm的TiAlN或TiAlYN或TiAlCrN涂层或TiAlN的多层涂层。 在第二PVD工艺中涂覆MoS2之前,将涂层机械研磨。