公开(公告)号：EP0049076B1

公开(公告)日：1985-06-12

申请号：EP81304302.3

申请日：1981-09-18

申请人： Hitachi, Ltd.

发明人： Munakata, Chusuke ,  Yagi, Kunihiro ,  Miyazaki, Masaru ,  Yoneda, Shiyouzou

IPC分类号： G11C11/23 ,  G11B9/08

CPC分类号： H01L31/08 ,  G03C1/705 ,  G11B7/241 ,  G11B9/08 ,  G11B11/00 ,  G11B2007/2571 ,  G11B2007/25715 ,  G11C11/23 ,  G11C13/04 ,  H04N1/2108

公开(公告)号：EP0049076A1

公开(公告)日：1982-04-07

申请号：EP81304302.3

申请日：1981-09-18

申请人： Hitachi, Ltd.

发明人： Munakata, Chusuke ,  Yagi, Kunihiro ,  Miyazaki, Masaru ,  Yoneda, Shiyouzou

IPC分类号： G11C11/23 ,  G11B9/08

CPC分类号： H01L31/08 ,  G03C1/705 ,  G11B7/241 ,  G11B9/08 ,  G11B11/00 ,  G11B2007/2571 ,  G11B2007/25715 ,  G11C11/23 ,  G11C13/04 ,  H04N1/2108

摘要： Herein disclosed is an information recording method in which a p- or n-type semiconductor wafer (3) is irradiated with an energetic particle beam such as an electron beam (5) thereby to control, e.g. decrease or increase generation of the surface photovoltage at the irradiated area so that information may be recorded on the wafer.

摘要翻译： 这里公开的是一种信息记录方法，其中p型或n型半导体晶片（3）被诸如电子束（5）的能量粒子束照射，从而控制例如。 降低或增加在照射区域处的表面光电压的产生，从而可以将信息记录在晶片上。