公开(公告)号：EP1388878B1

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：EP03254711.9

申请日：2003-07-28

申请人： Hitachi Plasma Patent Licensing Co., Ltd. ,  Hitachi Plasma Display Limited

发明人： Inoue, Kazunori c/o Fujitsu Limited ,  Kasahara, Shigeo c/o Fujitsu Limited ,  Sakita, Koichi c/o Fujitsu Limited ,  Toyoda, Osamu c/o Fujitsu Limited ,  Hasegawa, Minoru c/o Fujitsu Limited ,  Harada, Hideki c/o Fujitsu Limited ,  Betsui, Keiichi c/o Fujitsu Limited

IPC分类号： H01J17/02

CPC分类号： H01J11/12 ,  H01J9/02 ,  H01J11/40

公开(公告)号：EP1388878A1

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：EP03254711.9

申请日：2003-07-28

申请人： FUJITSU LIMITED ,  Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited

发明人： Inoue, Kazunori c/o Fujitsu Limited ,  Kasahara, Shigeo c/o Fujitsu Limited ,  Sakita, Koichi c/o Fujitsu Limited ,  Toyoda, Osamu c/o Fujitsu Limited ,  Hasegawa, Minoru c/o Fujitsu Limited ,  Harada, Hideki c/o Fujitsu Limited ,  Betsui, Keiichi c/o Fujitsu Limited

IPC分类号： H01J17/02

CPC分类号： H01J11/12 ,  H01J9/02 ,  H01J11/40

摘要： The present invention provides a gas discharge panel substrate assembly comprising: electrodes (3) formed on a substrate, a dielectric layer (4) covering the electrodes (3), and a protective layer (5) covering the dielectric layer (4) and in contact with a discharge space, wherein the protective layer includes MgO and at least one compound selected from the group consisting of an Al compound, a Ti compound, a Y compound, a Zn compound, a Zr compound, a Ta compound and SiC.

摘要翻译： 本发明提供一种气体放电面板基板组件，包括：形成在基板上的电极（3），覆盖电极（3）的电介质层（4）和覆盖电介质层（4）的保护层（5） 与放电空间接触，其中保护层包括MgO和选自Al化合物，Ti化合物，Y化合物，Zn化合物，Zr化合物，Ta化合物和SiC中的至少一种化合物。