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1.发明授权Procédé de traitement de métaux par dépôt de matière, et four pour la mise en oeuvre dudit procédé 失效一种用于通过涂布处理的金属，以及用于实施该方法的设备的过程
公开(公告)号：EP0489659B1
公开(公告)日：1996-01-03
申请号：EP91403288.3
申请日：1991-12-05
申请人： INNOVATIQUE S.A.
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/541
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2.发明公开Procédé de traitement de métaux par dépôt de matière, et four pour la mise en oeuvre dudit procédé 失效一种用于通过涂布处理的金属，以及用于实施该方法的设备的过程。
公开(公告)号：EP0489659A1
公开(公告)日：1992-06-10
申请号：EP91403288.3
申请日：1991-12-05
申请人： INNOVATIQUE S.A.
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/541
摘要： Le procédé de dépôt selon l'invention, de type PVD, utilise un four de traitement thermique sous vide à l'intérieur duquel on évapore la substance d'une cible (12) qui constitue une première électrode et on dépose les particules gazeuses ainsi produites sur un substrat porté à un potentiel d'une deuxième électrode, qui est différent de celui de la première électrode. Au cours de ce dépôt, le substrat est porté à une température de traitement comprise entre 800°C et 1200°C, et la cible (12) ainsi que ses organes annexes sont constamment refroidis par un courant de fluide de refroidissement de manière à ce que la matière de la cible (12) demeure solide et que l'évaporation produite à la surface de la cible (12) s'effectue par sublimation.
L'invention permet d'améliorer la régularité du dépôt, son ancrage dans le substrat ainsi que le temps de traitement.摘要翻译： 在沉积过程雅丁所述的发明，PVD型的，采用了真空热处理炉在里面有一个目标的物质（12），其形成第一电极被蒸发，从而产生的气体颗粒被沉积在上升到电位的基片 的第二电极，所有这些是不同于第一电极的那样。 在此沉积在基板被加热到处理温度800℃〜1200℃，和所述目标（12）以及与其连接的部件被连续地由冷却剂流体的流冷却，因此做了靶的材料（ 12）保持固态并做在所述目标（12）的表面产生的蒸发通过升华进行。 ... 本发明使得有可能改进沉积物的均匀性，其粘合到衬底和处理时间。 ...
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