公开(公告)号：EP1542789A1

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：EP03765783.0

申请日：2003-07-18

申请人： Kinetic Systems Inc.

发明人： WILMER, Jeff, A. ,  MCALLISTER, Brian, Alan ,  SWAN, Daniel, A. ,  SITTERUD, David, E.

IPC分类号： B01F3/00 ,  B01F3/04 ,  B01F3/08 ,  B01F3/12 ,  B01F3/18 ,  B01F15/04 ,  G05D11/13

CPC分类号： G05D11/132 ,  B01F3/0092 ,  B01F3/04985 ,  B01F3/088 ,  B01F3/1271 ,  B01F3/188 ,  B01F15/0408 ,  G05D11/138

摘要： A method and apparatus for blending and supplying process materials. The method and apparatus are particularly applicable to the blending of ultra-high purity chemicals, the blending of abrasive slurries with other chemicals for the polishing of semiconductor wafers, and high-accuracy blending of chemicals.

公开(公告)号：EP1542789B1

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：EP03765783.0

申请日：2003-07-18

申请人： Kinetic Systems Inc.

发明人： WILMER, Jeff, A. ,  MCALLISTER, Brian, Alan ,  SWAN, Daniel, A. ,  SITTERUD, David, E.

IPC分类号： B01F3/00 ,  B01F3/04 ,  B01F3/08 ,  B01F3/12 ,  B01F3/18 ,  B01F15/04 ,  G05D11/13

CPC分类号： G05D11/132 ,  B01F3/0092 ,  B01F3/04985 ,  B01F3/088 ,  B01F3/1271 ,  B01F3/188 ,  B01F15/0408 ,  G05D11/138

摘要： A method and apparatus for blending and supplying process materials. The method and apparatus are particularly applicable to the blending of ultra-high purity chemicals, the blending of abrasive slurries with other chemicals for the polishing of semiconductor wafers, and high-accuracy blending of chemicals.

摘要翻译： 混合和供应工艺材料的方法和设备。 该方法和设备特别适用于超高纯度化学品的混合，研磨浆与其他化学品的混合以抛光半导体晶片，以及化学品的高精度混合。