摘要:
L'invention se rapporte à l'utilisation d'un dérivé de l'éthylène diamine comme antagoniste de substance P et/ou comme analgésique local dans ou pour la préparation d'une composition cosmétique ou dermatologique pour traiter les peaux sensibles. Elle se rapporte en particulier à l'utilisation de ce dérivé pour prévenir et/ou lutter contre les irritations cutanées et/ou les dartres et/ou les érythèmes et/ou les sensations dysesthésiques et/ou les sensations d'échauffement et/ou les prurits de la peau et/ou des muqueuses y compris les yeux. L'invention se rapporte aussi à une composition contenant un produit à effet secondaire irritant et ce dérivé afin de diminuer voire éliminer cet effet irritant.
摘要:
La présente invention se rapporte à un nouvel agent chélateur d'un métal de transition présentant la particularité d'être photoclivable, c'est-à-dire de comporter une fonction chélatrice bloquée par un groupe protecteur photoclivable. Ainsi, la fonction chélatrice n'est libérée que lors d'exposition au rayonnement lumineux, notamment ultraviolet, ce qui permet à l'agent chélateur de capter alors les métaux de transition libérés sous l'action du rayonnement lumineux, sans avoir les effets secondaires des agents chélateurs habituels. L'invention a aussi pour objet les compositions cosmétiques et/ou dermatologiques, contenant au moins un tel agent chélateur et destinées à protéger la peau, les muqueuses et/ou les cheveux contre le rayonnement ultraviolet.
摘要:
Dérivés benzyle(s) substitué(s) de polyalkylène-polyamines correspondant à la formule suivante : dans laquelle : n et m = 2, 3 ou 4, p = 2 ou 3, x = 0, 1 ou 2,
R 1 et R 4 , identiques ou différents, représentent
(i) un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C 1 -C 4 , ou (ii) un radical de formule : dans laquelle : Z 1 représente OH ou OR, Z 2 et Z 3 représentent H, OH ou OR, R étant un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C 1 -C 8 ,
R 2 et R 3 , identiques ou différents, représentent H, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C 1 -C 4 , un radical de formule (A) ou un radical de formule (B) suivante :
R' 1 , R' 4 et R' 5 représentent H ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C 1 -C 4 , et R 5 représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C 1 -C 4 ou un radical de formule (A), sous réserve que l'un au moins des radicaux R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ou R 5 représente un radical de formule (A), et que lorsque R 1 et R 4 , identiques, représentent un radical de formule (A), x étant 0 ou 1, Z 1 ou Z 1 et Z 2 , identiques, ne peuvent représenter OR, R étant un radical alkyle en C 1 -C 6 , et leurs sels et complexes métalliques. Utilisation dans des compositions cosmétiques et pharmaceutiques en vue de protéger l'organisme contre le stress oxydant.