公开(公告)号：EP2602057A4

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：EP11814815

申请日：2011-08-01

申请人： LG CHEMICAL LTD

发明人： MIN KYOUNG-HOON ,  IM YE-HOON ,  LEE DAE-YEON ,  SONG JAE-IK ,  PARK SU-CHAN

IPC分类号： B24B7/20 ,  B24B37/005 ,  B24B37/04 ,  B24B49/00 ,  H01L21/304

CPC分类号： B24B7/00 ,  B24B37/005 ,  B24B37/042 ,  B24B49/00

摘要： Disclosed is a substrate polishing method capable of minimizing a difference of polishing amounts between a center portion and a rim portion of a large scale plate during a plate polishing process.

摘要翻译： 公开了一种基板抛光方法，其能够在板抛光处理期间使大规模板的中心部分和边缘部分之间的抛光量的差异最小化。

公开(公告)号：EP2607019A4

公开(公告)日：2017-08-16

申请号：EP11818418

申请日：2011-08-18

申请人： LG CHEMICAL LTD

发明人： MIN KYOUNG-HOON ,  IM YE-HOON ,  LEE DAE-YEON ,  SONG JAE-IK ,  PARK SU-CHAN

IPC分类号： B24B37/26

CPC分类号： B24B37/26

摘要： A polishing pad of a polishing system is mountable to a polishing plate and has a predetermined channel pattern so as to allow a polishing liquid supplied from a polishing liquid supplier to move on a polishing surface. The channel pattern has at least two kinds of patterns.

摘要翻译： 抛光系统的抛光垫可安装到抛光板并具有预定的通道图案，以允许从抛光液供应器供应的抛光液在抛光表面上移动。 通道模式具有至少两种模式。