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发明授权
METHODS AND APPARATUS FOR THE VAPORIZATION AND DELIVERY OF SOLUTION PRECURSORS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION 有权
标题翻译：方法和设备扩充及解决方案前体ALD供应

公开(公告)号：EP2047009B1

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：EP07796728.9

申请日：2007-07-06

申请人： Linde LLC

发明人： WANG, Qing, Min , HELLY, Patrick, J. , MA, Ce

IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/455 , H01L21/67 , C23C16/00

CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/4481 , H01L21/67109 , Y10T428/31678