PROCESS FOR COATING A PHOTORESIST COMPOSITION ONTO A SUBSTRATE
    1.
    发明公开
    PROCESS FOR COATING A PHOTORESIST COMPOSITION ONTO A SUBSTRATE 失效
    方法对于照片耐磨涂层基板。

    公开(公告)号:EP0466770A1

    公开(公告)日:1992-01-22

    申请号:EP90905877.0

    申请日:1990-03-27

    IPC分类号: B05D1 G03F7

    CPC分类号: G03F7/162

    摘要: Un procédé d'application d'un film d'épaisseur uniforme de solides de réserve sur un substrat se caractérise par les étapes consistant: (a) à former une composition de réserve liquide comprenant des solides de réserve dans un solvant; la teneur en solides de ladite composition de réserve étant située dans la plage comprise entre environ 10 % en poids et environ 22 % en poids; (b) à former des gouttelettes de pulvérisation atomisées de ladite composition de réserve liquide; (c) à laisser lesdites gouttelettes de pulvérisation atomisées se déposer par gravité sur une surface de substrat, formant ainsi une couche de réserve sur ladite surface; et (d) à faire tourner ledit substrat enduit à une vitesse de rotation prédéterminée pendant une période de temps prédéterminée afin d'éliminer tout ledit solvant de ladite couche de réserve, et afin de former un film d'épaisseur uniforme de solides de réserve sur ledit substrat.