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1.发明公开USE OF PARTICULAR MIXTURES OF ETHYL LACTATE AND METHYL ETHYL KETONE TO REMOVE UNDESIRABLE PERIPHERAL MATERIAL (E.G. EDGE BEADS) FROM PHOTORESIST-COATED SUBSTRATES 失效使用乙酸乙酯和甲基乙酮的特殊混合物从光电涂层基材中除去不可渗透的外围材料（E.G边缘）
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2.发明公开RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS CONTAINING FULLY SUBSTITUTED NOVOLAK POLYMERS 失效含有完全取代的NOVOLAK聚合物的辐射敏感组合物
公开(公告)号：EP0490966A4
公开(公告)日：1992-10-21
申请号：EP90913690
申请日：1990-09-06
IPC分类号： G03F7/023 , H01L21/027 , H01L21/30
CPC分类号： G03F7/0236
摘要： In a photoresist composition comprising a novolak polymer and a photosensitizer, the improvement which is characterized by the use of a novolak polymer which comprised the reaction product of an aldehyde and a mixture of phenolic compounds containing at least about 2 % by weight of at least one phenolic compound selected from the group consisting of 2,3,5 -trimethylphenol and 2,3-dimethylphenol or mixtures thereof.
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3.发明公开RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS CONTAINING FULLY SUBSTITUTED NOVOLAK POLYMERS 失效完全取代线型酚醛树脂聚合物含辐射敏感组合。
公开(公告)号：EP0490966A1
公开(公告)日：1992-06-24
申请号：EP90913690.0
申请日：1990-09-06
CPC分类号： G03F7/0236
摘要： Dans une composition d'agent de réserve comprenant un polymère de novolaque et un photosensibilisateur, l'amélioration est caractérisée par l'emploi d'un polymère de novolaque comprenant le produit de la réaction d'un aldéhyde et d'un mélange de composés phénoliques contenant au moins environ 2 % en poids d'au moins un composé phénolique choisi dans le groupe composé de 2,3,5,-triméthylphénol et 2,3-diméthylphénol ou de mélanges de ceux-ci.
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4.发明公开AQUEOUS DEVELOPING SOLUTION AND ITS USE IN DEVELOPING POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION 失效水质发展解决方案及其在开发正式工作光电组合物中的应用
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5.发明公开THERMALLY STABLE PHENOLIC RESIN COMPOSITIONS AND THEIR USE IN LIGHT-SENSITIVE COMPOSITIONS 失效热安定性等酚类化合物和它们在光敏制剂。
公开(公告)号：EP0387301A1
公开(公告)日：1990-09-19
申请号：EP89900726.0
申请日：1988-11-17
CPC分类号： G03F7/0236 , C08G8/24
摘要： La composition de résine phénolique décrite se caractérise par des unités représentées par la formule (I), où R1 représente un halogène et R2 représente un groupe alkyle inférieur de 1 à 4 atomes de carbone et par le fait que ces unités représentées par la formule (I) sont obtenues par condensation du résorcinol à substitution halogène correspondant représenté par la formule (A), où R1 est défini ci-dessus, avec le 2,6-bis(hydroxyméthyl)-phénol à substitution alkyle para-inférieure correspondant représenté par la formule (B), où R2 est défini ci-dessus, le rapport molaire de A:B étant compris entre environ 0,5/1 et 1,7/1. Cette résine phénolique peut être mélangée avec des composés photo-actifs tels que des agents sensibilisateurs à base de diazide de 1,2-naphthoquinone pour la préparation d'une composition photosensible destinée à être utilisée comme photoréserve servant de positif.
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7.发明公开THERMALLY STABLE PHENOLIC RESIN COMPOSITIONS AND THEIR USE IN LIGHT-SENSITIVE COMPOSITIONS 失效热稳定酚醛树脂组合物及其在敏感组合物中的用途
公开(公告)号：EP0424464A4
公开(公告)日：1991-09-25
申请号：EP89908908
申请日：1989-07-07
IPC分类号： C08G8/04 , C08G8/12 , C08K5/42 , C08L61/04 , C08L61/06 , C09D161/06 , C09D161/20 , C09D167/06 , G03F7/023 , H01L21/027 , H01L21/30 , C08G14/04 , G03C1/60 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0236 , C08G8/04 , C08K5/42 , C09D167/06 , C08L61/06
摘要： A phenolic novolak resin characterized by the product of a condensation reaction of an aldehyde comprising a haloacetaldehyde source or a mixture of a haloacetaldehyde source and a formaldehyde source with a phenolic monomer comprising at least one compound of formula (I), wherein R1, R2 and R3 are individually selected from hydrogen or a one to four carbon alkyl group and wherein the ratio of total carbon atoms in the sum of R1, R2 and R3 to the total number of phenolic nuclei in said resin is from about 0.5:1 to about 1.5:1 in the presence of a solvent; said resin made by employing a molar ratio of total aldehyde to total phenolic monomers from about 0.33:1 to about 0.70:1. These phenolic resins are suitable for use in light-sensitive compositions (e.g. positive-working photoresists).
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8.发明公开THERMALLY STABLE PHENOLIC RESIN COMPOSITIONS AND THEIR USE IN LIGHT-SENSITIVE COMPOSITIONS 失效热稳定的酚醛树脂组合物及其在光敏组合物中的用途
公开(公告)号：EP0387301A4
公开(公告)日：1991-09-25
申请号：EP89900726
申请日：1988-11-17
IPC分类号： C08G8/00 , C08G8/14 , C08G8/20 , C08G8/22 , C08G8/24 , C08G65/38 , C08L61/04 , C08L61/14 , C09D161/04 , C09D161/14 , G03F7/023 , H01L21/027 , H01L21/30 , G03C1/54 , G03C1/60 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0236 , C08G8/24
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公开(公告)号：EP0466770A1
公开(公告)日：1992-01-22
申请号：EP90905877.0
申请日：1990-03-27
CPC分类号： G03F7/162
摘要： Un procédé d'application d'un film d'épaisseur uniforme de solides de réserve sur un substrat se caractérise par les étapes consistant: (a) à former une composition de réserve liquide comprenant des solides de réserve dans un solvant; la teneur en solides de ladite composition de réserve étant située dans la plage comprise entre environ 10 % en poids et environ 22 % en poids; (b) à former des gouttelettes de pulvérisation atomisées de ladite composition de réserve liquide; (c) à laisser lesdites gouttelettes de pulvérisation atomisées se déposer par gravité sur une surface de substrat, formant ainsi une couche de réserve sur ladite surface; et (d) à faire tourner ledit substrat enduit à une vitesse de rotation prédéterminée pendant une période de temps prédéterminée afin d'éliminer tout ledit solvant de ladite couche de réserve, et afin de former un film d'épaisseur uniforme de solides de réserve sur ledit substrat.
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