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发明公开
CARBON DOPED METAL OXYFLUORIDE (C:M-0-F) LAYER AS PROTECTION LAYER IN FLUORINE PLASMA ETCH PROCESSES 审中-公开

公开(公告)号：EP4229227A1

公开(公告)日：2023-08-23

申请号：EP21802206.9

申请日：2021-10-19

申请人： Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon

发明人： KRASSNITZER, Siegfried , GUIMOND, Sebastien , KÈRAUDY, Julien , CONIFF, John , KIRK, Matthew Paul

IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/08 , C23C16/02 , C23C16/40 , C23C16/455