公开(公告)号：EP2599891A3

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：EP13156872.7

申请日：2007-07-12

申请人： Oerlikon Trading AG, Trübbach

发明人： Ramm, Jürgen ,  Widrig, Beno ,  Wohlrab, Christian

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/08 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34

CPC分类号： C23C14/325 ,  C23C14/081 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3447 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3467

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vakuumbeschichtungsanlage umfassend zumindest eine Arcquelle mit einer Kathode und einer Anode sowie ein mit der Kathode elektrisch verbundenes Target (1) mit einer Targetoberfläche (2). In einer Ausführungsvariante umfasst die Vakuumbeschichtungsanlage ferner ein aus zumindest einer im Wesentlichen axial gepolten Spule bestehendes Magnetsystem (8) zur Erzeugung eines kleinen, im Wesentlichen zur Targetoberfläche (2) senkrechten, äusseren Magnetfelds. In einer weiteren Ausführungsvariante umfasst die Vakuumbeschichtungsanlage ferner ein zwischen der Kathode und der Anode angeordneter, von beiden elektrisch isolierter Begrenzungsring (3) zur Begrenzung des Funkens auf der Targetoberfläche.

公开(公告)号：EP2599891A2

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：EP13156872.7

申请日：2007-07-12

申请人： Oerlikon Trading AG, Trübbach

发明人： Ramm, Jürgen ,  Widrig, Beno ,  Wohlrab, Christian

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/08

CPC分类号： C23C14/325 ,  C23C14/081 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3447 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3467

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vakuumbeschichtungsanlage umfassend zumindest eine Arcquelle mit einer Kathode und einer Anode sowie ein mit der Kathode elektrisch verbundenes Target (1) mit einer Targetoberfläche (2). In einer Ausführungsvariante umfasst die Vakuumbeschichtungsanlage ferner ein aus zumindest einer im Wesentlichen axial gepolten Spule bestehendes Magnetsystem (8) zur Erzeugung eines kleinen, im Wesentlichen zur Targetoberfläche (2) senkrechten, äusseren Magnetfelds. In einer weiteren Ausführungsvariante umfasst die Vakuumbeschichtungsanlage ferner ein zwischen der Kathode und der Anode angeordneter, von beiden elektrisch isolierter Begrenzungsring (3) zur Begrenzung des Funkens auf der Targetoberfläche.

摘要翻译： 通过真空镀膜在工件上制造绝缘层的方法包括在包含反应性气体的气氛中操作电弧源的阳极和阴极之间的电弧放电，并在与电连接的目标表面上产生小的外部磁场 阴极垂直于目标表面。 磁场包括用于支持汽化过程的垂直分量和较小的径向或表面平行部件。 磁系统布置在目标表面后面的平面内。 通过真空镀膜在工件上制造绝缘层的方法包括在包含反应性气体的气氛中操作电弧源的阳极和阴极之间的电弧放电，并在与电连接的目标表面上产生小的外部磁场 阴极垂直于目标表面。 磁场包括用于支持汽化过程的垂直分量和较小的径向或表面平行部件。 磁系统布置在目标表面后面的平面内。 磁场由磁体系统产生，该磁体系统包括轴向偏振线圈，其尺寸几何尺寸与目标相似，该线圈受到励磁电流的影响。 在目标表面处的垂直分量在较小的25高斯之间的范围内调节。 火花放电或/和电弧源以相等的流量和脉冲和/或交流电流供应。 源极电压的20％的直流部分的增加是由于目标表面相对于没有绝缘分配的表面的操作的绝缘分配引起的。 在电弧源的阴极之间作为第一电极和与电弧源分开布置的第二电极之间操作脉冲电流源。 第二个电极作为另一个电弧源的阴极运行，并与直流电源连接。 作为第二电极切换溅射阴极。 两个目标在彼此相对的布置中操作，并且工件布置在目标之间。 励磁电流是由电源通过线圈引导到阴极的直流和/或脉冲电流和/或交流电流。 线圈被布置成使得外部磁场随着励磁电流的流动而调整到电流电弧的自磁场的值。 具有线圈数的线圈用于1-5绕组。 反应性气体包括氧，并且氧化物与含氧化物层分离。 将粘合剂和/或硬质层施加到含氧化物层的工件上。 施加过渡层的粘合层，硬层和/或氧化物层，其包含两个直接排序的连续层的元素。 其他涂料源的表面重涂度比从阴极蒸发的金属量少10％。 电绝缘体限制环布置成由电绝缘体或良导电金属组成。