公开(公告)号：EP2720264A1

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：EP13188461.1

申请日：2013-10-14

申请人： Palo Alto Research Center Incorporated

发明人： Chow, Eugene M. ,  Lu, Jeng Ping ,  Volkel, Armin R. ,  Hsieh, Bing R. ,  Whiting, Gregory

IPC分类号： H01L23/544 ,  H01L21/98

CPC分类号： H01L23/544 ,  H01L24/95 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54433 ,  H01L2224/95085 ,  H01L2224/95145 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/10329

摘要： A method of forming a charge pattern (A,B,B,A,B) on a microchip (12) includes depositing a material on the surface of the microchip, and immersing the microchip in a fluid to develop charge in or on the material through interaction with the surrounding fluid.

摘要翻译： 在微芯片（12）上形成电荷图案（A，B，B，A，B）的方法包括在微芯片的表面上沉积材料，并将微芯片浸入流体中以在材料中或材料上形成电荷 通过与周围液体的相互作用。

公开(公告)号：EP2720260A1

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：EP13188458.7

申请日：2013-10-14

申请人： Palo Alto Research Center Incorporated

发明人： Chow, Eugene M. ,  Lu, Jeng Ping ,  Volkel, Armin R. ,  Hsieh, Bing R. ,  Whiting, Gregory

IPC分类号： H01L21/98 ,  H01L23/544 ,  G03G5/02

CPC分类号： H01L24/95 ,  G03G5/02 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54433 ,  H01L2223/5448 ,  H01L2224/95085 ,  H01L2224/95145 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/10329

摘要： A method of forming a charge pattern on a microchip (12) includes depositing a material (50) on the surface of the microchip (12), and using an external device (56) to develop charge in the material (50).

摘要翻译： 在微芯片（12）上形成电荷图案的方法包括在微芯片（12）的表面上沉积材料（50），并使用外部器件（56）在材料（50）中产生电荷。

公开(公告)号：EP2720260B1

公开(公告)日：2019-07-31

申请号：EP13188458.7

申请日：2013-10-14

申请人： Palo Alto Research Center Incorporated

发明人： Chow, Eugene M. ,  Lu, Jeng Ping ,  Volkel, Armin R. ,  Hsieh, Bing R. ,  Whiting, Gregory

IPC分类号： H01L21/98 ,  H01L23/544 ,  G03G5/02

公开(公告)号：EP2868482A3

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：EP14189967.4

申请日：2014-10-22

申请人： Palo Alto Research Center Incorporated

发明人： Hsieh, Bing R. ,  Stowe, Timothy D.

IPC分类号： B41M1/06 ,  B41C1/10 ,  B41N1/12 ,  C08K9/06 ,  C08K3/04 ,  C08L83/04 ,  C08K3/36

CPC分类号： B41C1/10 ,  B41C1/1033 ,  B41J2/435 ,  B41M1/06 ,  B41N1/12 ,  B41N10/02 ,  C08G77/24 ,  C08K3/04 ,  C08K9/06 ,  C08L83/04 ,  C08L83/08

摘要： An imaging blanket for a variable data lithography printing system is disclosed that comprises a polymer body having incorporated therein carbon black and measured amount of surface-treated fumed silica. The carbon black serves to improve the thermal absorption efficiency for thermal patterning of a dampening fluid layer formed over the imaging blanket in use. The surface-treated fumed silica assists with desirable dispersion of the carbon black in the polymer body. The surface-treated fumed silica further assists with the formation of a surface micro-texture as part of the process of molding the imaging blanket. A method for manufacturing such an imaging blanket is also disclosed.

公开(公告)号：EP2868482A2

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：EP14189967.4

申请日：2014-10-22

申请人： Palo Alto Research Center Incorporated

发明人： Hsieh, Bing R. ,  Stowe, Timothy D.

IPC分类号： B41M1/06 ,  B41C1/10 ,  B41N1/12

CPC分类号： B41C1/10 ,  B41C1/1033 ,  B41J2/435 ,  B41M1/06 ,  B41N1/12 ,  B41N10/02 ,  C08G77/24 ,  C08K3/04 ,  C08K9/06 ,  C08L83/04 ,  C08L83/08

摘要： An imaging blanket for a variable data lithography printing system is disclosed that comprises a polymer body having incorporated therein carbon black and measured amount of surface-treated fumed silica. The carbon black serves to improve the thermal absorption efficiency for thermal patterning of a dampening fluid layer formed over the imaging blanket in use. The surface-treated fumed silica assists with desirable dispersion of the carbon black in the polymer body. The surface-treated fumed silica further assists with the formation of a surface micro-texture as part of the process of molding the imaging blanket. A method for manufacturing such an imaging blanket is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种用于可变数据光刻印刷系统的成像覆盖层，其包括其中掺入碳黑的聚合物主体和测量量的表面处理的热解法二氧化硅。 炭黑用于提高在使用中在成像毯上形成的阻尼流体层的热图案化的热吸收效率。 表面处理的热解法二氧化硅有助于炭黑在聚合物体中的理想分散。 表面处理的热解法二氧化硅进一步有助于形成表面微纹理，作为成像毯的成型过程的一部分。 还公开了一种用于制造这种成像毯的方法。