Procédé de traitement thermique et installation pour la mise en oeuvre de ce procédé
    1.
    发明公开
    Procédé de traitement thermique et installation pour la mise en oeuvre de ce procédé 无效
    Verfahren und Vorrichtung zurWärmebehandlungvonWerkstücken

    公开(公告)号:EP0737755A1

    公开(公告)日:1996-10-16

    申请号:EP96105715.5

    申请日:1996-04-11

    申请人: Patherm SA

    IPC分类号: C21D9/00 C21D1/74

    摘要: L'invention concerne un procédé et une installation de traitement thermique pour le traitement et la trempe de pièces de petites dimensions.
    Cette installation comporte :

    un four de traitement (2) capable de porter les pièces à traiter (22) à des températures de traitement,
    une cellule de trempe (4) disposée en aval du four (2), et formant avec celui-ci une ligne de traitement (LT), et
    des moyens de transport (T) permettant le déplacement des pièces (22) le long de la ligne de traitement (LT),
    cette installation étant caractérisée en ce qu'elle est prévue pour traiter un ensemble de bacs ou paniers (20) agencés pour recevoir les pièces à traiter (22) et les regrouper en charges individuelles pour constituer des lots distincts formant un volume V de pièces dont la hauteur H est nettement inférieure aux autres dimensions (L1, L2) du volume, lesdits moyens de transport (T) étant en outre constitués de plusieurs dispositifs d'entraînement (DE1, DE2, DE3, DE3' et DE4) qui peuvent être pilotés individuellement, par des moyens de régulation (UC), à au moins trois vitesses caractéristiques respectivement d'entrée (V1), de traitement (V2) et de sortie (V3) pour diviser la ligne de traitement (LT) en secteurs (S1, S2 et S3) assurant localement, sur cette ligne, un déplacement des bacs ou paniers à des niveaux de vitesses (V1, V2 et V3) différents.

    摘要翻译: 在包括至少一个炉(2)和一个硬化池(4)的处理管线(LT)上的部件的热处理包括:(a)将组件(22)排列在单独的装料(C)中,在一些箱子或篮子 20),以形成具有体积(V)的具有高度(H)的组件的不同批次,所述组件的高度(H)被选择为明显小于体积的其他尺寸(L1,L2); (b)将单独的电荷(C)引入炉子(2)并加热到处理温度; (c)通过运输机(T)将电荷(C)从炉子(2)的内部运送到硬化电池(4)的内部; 以及(d)沿着处理管线(LT)以电荷(C)沿着该线局部地以不同的速度(V1,V2)移位的方式引导电荷(C)在运送器(T)上的位移 ,V3)。 还要求使用该装置的方法,并且包括形成处理管线(LT)的至少一个炉(2),一个硬化槽(4)和运输箱(T)。