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公开(公告)号：EP2936540B1
公开(公告)日：2019-02-13
申请号：EP13821337.6
申请日：2013-12-20
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2.发明公开STORAGE AND SUB-ATMOSPHERIC DELIVERY OF DOPANT COMPOSITIONS FOR CARBON ION IMPLANTATION 审中-公开存储和负压组合物用于资助碳离子注入的分布
公开(公告)号：EP2936540A1
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：EP13821337.6
申请日：2013-12-20
发明人： SINHA, Ashwini, K. , HEIDERMAN, Douglas, C. , BROWN, Lloyd, A. , CAMPEAU, Serge, M. , SHIH, Robert , LU, Dragonno. , CHIU, Wen-pin , KAO, Chien-kang
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/34 , F17C13/04 , H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01L21/265 , C01B3/00 , C01B23/00 , C23C14/34 , F17C1/005 , F17C2201/0109 , F17C2201/0114 , F17C2201/035 , F17C2201/058 , F17C2203/0617 , F17C2205/0329 , F17C2205/0332 , F17C2205/0335 , F17C2205/0338 , F17C2205/035 , F17C2205/0385 , F17C2205/0391 , F17C2221/03 , F17C2223/0123 , F17C2225/038 , F17C2260/044 , F17C2270/0518 , F17C2270/0745 , H01J37/3002 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/31701 , Y02E60/321 , Y02E60/324 , Y10T137/2012
摘要： A supply source for delivery of a CO-containing dopant gas composition is provided. The composition includes a controlled amount of a diluent gas mixture such as xenon and hydrogen, which are each provided at controlled volumetric ratios to ensure optimal carbon ion implantation performance. The composition can be packaged as a dopant gas kit consisting of a CO-containing supply source and a diluent mixture supply source. Alternatively, the composition can be pre-mixed and introduced from a single source that can be actuated in response to a sub-atmospheric condition achieved along the discharge flow path to allow a controlled flow of the dopant mixture from the interior volume of the device into an ion source apparatus.
摘要翻译： 提供了一种用于输送含CO的掺杂气体组合物的供给源。 该组合物包括稀释气体混合物的控制的量：例如氙和氢，每个都设置在受控体积比哪个以确保最佳的碳离子注入的性能。 该组合物可被包装作为掺杂剂气体的套件，包括含CO的供给源和稀释剂混合物供给源的。 或者，组合物可以预先混合，并从单个源并可以响应于沿所述排出流路中来实现的低于大气压的条件下被致动引入，以允许从内部容积的装置的入掺杂剂混合物的受控流 在离子源装置。
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