公开(公告)号：EP0868543A4

公开(公告)日：1998-12-09

申请号：EP96936459

申请日：1996-10-04

申请人： RODEL INC

发明人： WANG JIUN-FANG ,  SETHURAMAN ANANTHA ,  WANG HUEY-MING ,  COOK LEE MELBOURNE

IPC分类号： B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C23F1/00 ,  C23F3/00 ,  H01L21/304 ,  C03C15/00

CPC分类号： C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/00

摘要： An aqueous slurry is provided for polishing or planarizing a work piece which contains a metal, the solids portion of said slurry being comprised of 1 to 50 percent by weight of submicron alpha-alumina, the remainder of the solids being of a substantially less abrasive composition chosen from the group consisting of aluminum hydroxides, gamma-alumina, delta-alumina, amorphous alumina, and amorphous silica. Also provided is a method for polishing the surface of a work piece which contains a metal wherein said aqueous slurry is used as the polishing composition during chemical-mechanical polishing.

摘要翻译： 提供含水浆料用于抛光或平面化含有金属的工件，所述浆料的固体部分包含约1-约50重量％的亚微米α-氧化铝，其余固体基本上不具有磨料 选自一种或多种选自水合铝，氢氧化铝，γ-氧化铝，δ-氧化铝，无定形氧化铝和无定形二氧化硅的组合物。 还提供了一种抛光包含金属的工件表面的方法，其中在化学机械抛光期间使用所述含水浆料作为抛光组合物。