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发明公开
CONTROLLED GRADIENT OF POROSITY IN CMC 审中-公开

公开(公告)号：EP4452894A1

公开(公告)日：2024-10-30

申请号：EP22850844.6

申请日：2022-12-16

申请人： Raytheon Technologies Corporation

发明人： READ, Kathryn, S. , LENZ, Brendan, M.

IPC分类号： C04B35/80 , C04B38/00 , C04B35/565 , B32B18/00 , F01D5/28