摘要:
1. Film of organosilicon compound deposited on a glass substrate, either directly or on an intermediate layer, and produced by polymerization under plasma in the presence of oxygen, characterized in that the discharge creating the plasma has a frequency lower than 1 megahertz and that the thickness of the film is at most 100 nm.
摘要:
L'invention a pour objet un substrat transparent (1), notamment en verre, muni d'un empilement de couches minces comportant au moins une couche (5) métallique à propriétés dans l'infra-rouge, notamment basse émissive, disposée entre deux revêtements à base de matériau diélectrique. Le revêtement sous-jacent à la couche (5) à propriétés dans l'infra-rouge comporte au moins un revêtement de mouillage qui est adjacent à ladite couche (5) et qui comprend une couche (3) soit à base d'oxyde de tantale, soit à base d'oxyde de niobium.
摘要:
Méthode pour déposer sur du verre par pulvérisation cathodique réactive une couche d'oxyde d'indium étain à faible résistivité et haute transparence où l'on commence par déposer une couche possédant un coefficient d'absorption intrinsèque minimum puis à effectuer un traitement thermique, dont une phase est réductrice.
摘要:
L'invention concerne le recouvrement de substrats en verre revêtus ou non de couches minces. Elle propose un film transparent d'un composé organo-silicié, d'épaisseur de 20 nanomètres à 2 microns, transparent, non absorbant dans le visible, d'indice de réfraction de l'ordre de 1,45 et plus généralement compris entre 1,35 et 1,60 polymérisé sous plasma, destiné à recouvrir lesdits substrats. Elle s'applique à la protection de vitrages à couches parmi lesquelles figurent une couche de métal, à la réalisation de couches à propriétés optiques, à la réalisation de surfaces anti-reflet, à la réalisation de couches-barrière.