摘要:
Die Erfindung betrifft die Verwendung einer alkalischen Lösung enthaltend ein halogenfreies Palladiumsalz und 2-Aminopyridin als Konditionierungsmittel für Basismaterial zur Herstellung von gedruckten Schaltungen.
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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur haftfesten Metallisierung von Polyetherimid durch Vorbehandlung des Polyetherimids und anschließende Aktivierung sowie chemische und gegebenenfalls galvanische Metallabscheidung, dadurch gekennzeichnet, daß das Polyetherimid mit einem alkalihydroxidhaltigen Lösungsmittel vorbehandelt wird.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur beidseitigen haftfesten Metallisierung von Polyimid-Folien durch Vorbehandlung und nachfolgende Aktivierung sowie chemische und gegebenenenfalls galvanische Metallisierung, dadurch gekennzeichnet, daß die Polyimidoberflächen mit einer Lösung von Alkalihydroxid in einem organischen Lösungsmittel vorbehandelt wird.
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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur haftfesten Metallisierung von Kunststoffen durch Vorbehandlung der Kunststoffe und anschließende Aktivierung sowie chemische und gegebenenfalls galvanische Metallabscheidung, dadurch gekennzeichnet, daß die Kunststoffe zunächst mit einer alkalischen Lösung von Oxidationsmitteln und darauf mit einer Metallsalzlösung vorbehandelt werden.
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Die Erfindung betrifft eine Wäßrige Lösung zur Vorbehandlung von Polyimid enthaltend Alkalihydroxid gegebenenfalls in Mischung mit einer organischen Stickstoffverbindung zur Steigerung der Haftung von nach anschließender Aktivierung chemisch und gegenbenenfalls galvanisch abgeschiedenen Metallschichten, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung zusätzlich ein zweiwertiges Metall in Form seiner Verbindungen enthält.
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Behandlung von Leiterplatten mit Prozeßlösungen im vertikal kontinuierlichen, prozeßabhängigen Durchlaufverfahren, mit Stetigförderer, Oberflächenbehandlungsmittel-Sammelbehälter und Düsen mit verbindenden Rohrleitungen, dadurch gekennzeichnet, daß sich oberhalb des Sammelbehälters zwei spiegelbildlich gleiche Auffanggefäße mit an ihrem unteren Ende angebrachten Ablauföffnungen befinden, die beidseitig parallel zur Förderrichtung der Leiterplatte angeordnet sind, wobei deren zur Leiterplatte gerichtete Wandseite kleiner als die äußere Wandseite ausgebildet ist sowie ein Verfahren zur kontinuierlichen Oberflächenbehandlung von Leiterplatten, insbesondere zur Durchkontaktierung von gebohrten Leiterplatten, durch prozeßabhängige Einwirkung von flüssigen Oberflächenbehandlungsmitteln und/oder Elektrolytlösungen auf deren Oberfläche dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlungslösungen beidseitig auf die obere Kante der an Stetigförderern vertikal aufgehängten Leiterplatten im freien Fall beaufschlagt und nach deren Ablaufen und Auffangen im Kreislauf dem Prozeß wieder zugeführt werden.