Mittel und Verfahren zur Entfernung von Fotoresisten
    1.
    发明公开
    Mittel und Verfahren zur Entfernung von Fotoresisten 失效
    Mittel und Verfahren zur Entfernung von Fotoresisten。

    公开(公告)号:EP0267437A2

    公开(公告)日:1988-05-18

    申请号:EP87114831.8

    申请日:1987-10-10

    CPC分类号: G03F7/425

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Mittel zur Entfernung von Fotore­sisten auf Leiterplatten, gekennzeichnet durch einen Gehalt an quaternären Alkylammoniumhydroxiden der allgemeinen Formel
    worin R¹, R², R³ und/oder R⁴ jeweils gegebenenfalls substi­tuierte organische Reste, vorzugsweise Alkylreste oder Hydroxialkylreste, bedeuten.

    摘要翻译: 用于从电路板上除去光致抗蚀剂的方法的特征在于它含有式“IMAGE”的季烷基氢氧化铵,其中R 1,R 2,R 3和/或R 4 在每种情况下都表示任选取代的有机基团,优选烷基或羟烷基。