摘要:
Die Erfindung betrifft ein Mittel zur Entfernung von Fotoresisten auf Leiterplatten, gekennzeichnet durch einen Gehalt an quaternären Alkylammoniumhydroxiden der allgemeinen Formel worin R¹, R², R³ und/oder R⁴ jeweils gegebenenfalls substituierte organische Reste, vorzugsweise Alkylreste oder Hydroxialkylreste, bedeuten.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Mittel zur Entfernung von Fotoresisten auf Leiterplatten, gekennzeichnet durch einen Gehalt an quaternären Alkylammoniumhydroxiden der allgemeinen Formel worin R¹, R², R³ und/oder R⁴ jeweils gegebenenfalls substituierte organische Reste, vorzugsweise Alkylreste oder Hydroxialkylreste, bedeuten.