公开(公告)号：EP0166349A1

公开(公告)日：1986-01-02

申请号：EP85107462.5

申请日：1985-06-14

申请人： SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.

发明人： Shimizu, Yasuhiro c/o Itami Works ,  Doi, Akira c/o Itami Works

IPC分类号： C23C14/48 ,  C23C14/46 ,  C23C14/40 ,  C23C14/16

CPC分类号： C23C14/22 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/32

摘要： A surface treatment process for forming a thin film on the surface of a substrate thereby to obtain a hard layer, by forming a metal vapor atmosphere around the substrate to inject a metal or nonmetal ion into the substrate while ionizing the metal vapor.

摘要翻译： 一种表面处理方法，用于通过在衬底周围形成金属蒸气气氛以在金属蒸气离子化的同时将金属或非金属离子注入到衬底中来在衬底的表面上形成薄膜从而获得硬层。

公开(公告)号：EP0166349B1

公开(公告)日：1989-10-18

申请号：EP85107462.5

申请日：1985-06-14

申请人： SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.

发明人： Shimizu, Yasuhiro c/o Itami Works ,  Doi, Akira c/o Itami Works

IPC分类号： C23C14/48 ,  C23C14/46 ,  C23C14/40 ,  C23C14/16

CPC分类号： C23C14/22 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/32