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1.发明公开Verfahren zum Herstellen von glatten Barriereschichten und Verbundmaterial mit glatter Barriereschicht 有权制造具有光滑的阻挡层光滑阻挡层和复合材料的制造方法
公开(公告)号：EP1388594A3
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：EP03017419.7
申请日：2003-08-01
发明人： Bicker, Matthias, Dr. , Behle, Stephan, Dr. , Lüttringhaus-Henkel, Andreas , Arnold, Gregor , Rothaar, Uwe, Dr. , Klause, Michaela , Klippe, Lutz , Walther, Marten
IPC分类号： C23C16/515 , C23C16/30 , C23C16/40 , B65D65/42 , C23C28/00
CPC分类号： B05D1/62 , B05D7/56 , C23C16/029 , C23C16/045 , C23C16/402
摘要： Um die Eigenschaften von Barrierebeschichtungen zu verbessern, sieht die Erfindung ein Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf ein Substrat (10) vor, wobei zum Beschichten ein Plasma eingesetzt wird, das insbesondere unter Verwendung von Mikrowellen in einer Gasatmosphäre, die zumindest einen Precursor umfaßt, erzeugt wird, wobei auf dem Substrat (10) vor dem Abscheiden zumindest einer weiteren Schicht zumindest eine organische Haftvermittlerschicht (11) abgeschieden wird, die zumindest in den ersten Monolagen im Lagenwachstum aufwächst.
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2.发明公开Verfahren zum Herstellen von glatten Barriereschichten und Verbundmaterial mit glatter Barriereschicht 有权制造具有光滑的阻挡层光滑阻挡层和复合材料的制造方法
公开(公告)号：EP1388594A2
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：EP03017419.7
申请日：2003-08-01
发明人： Bicker, Matthias, Dr. , Behle, Stephan, Dr. , Lüttringhaus-Henkel, Andreas , Arnold, Gregor , Rothaar, Uwe, Dr. , Klause, Michaela , Klippe, Lutz , Walther, Marten
IPC分类号： C23C16/515 , C23C16/30 , C23C16/40 , B65D65/42
CPC分类号： B05D1/62 , B05D7/56 , C23C16/029 , C23C16/045 , C23C16/402
摘要： Um die Eigenschaften von Barrierebeschichtungen zu verbessern, sieht die Erfindung ein Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf ein Substrat (10) vor, wobei zum Beschichten ein Plasma eingesetzt wird, das insbesondere unter Verwendung von Mikrowellen in einer Gasatmosphäre, die zumindest einen Precursor umfaßt, erzeugt wird, wobei auf dem Substrat (10) vor dem Abscheiden zumindest einer weiteren Schicht zumindest eine organische Haftvermittlerschicht (11) abgeschieden wird, die zumindest in den ersten Monolagen im Lagenwachstum aufwächst.
摘要翻译： 设备用于处理工件，爱尤其空心体，包括一个处理单元（101），用于接收工件，流体供给单元（80）供给流体处理单元，以及用于控制流体供给至流体控制单元（40） 处理单元。 因此独立claimsoft包括用于上述装置中使用的流体供应装置。
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