摘要:
Um die Eigenschaften von Barrierebeschichtungen zu verbessern, sieht die Erfindung ein Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf ein Substrat (10) vor, wobei zum Beschichten ein Plasma eingesetzt wird, das insbesondere unter Verwendung von Mikrowellen in einer Gasatmosphäre, die zumindest einen Precursor umfaßt, erzeugt wird, wobei auf dem Substrat (10) vor dem Abscheiden zumindest einer weiteren Schicht zumindest eine organische Haftvermittlerschicht (11) abgeschieden wird, die zumindest in den ersten Monolagen im Lagenwachstum aufwächst.
摘要:
Die Erfindung gibt ein Verfahren zum Aufbringen von Wechselschichten durch chemische Gasphasenabscheidung, welches die Verfahrensschritte des Abscheidens einer Haftvermittlerschicht auf einem Substrat, und des Aufbringens einer Sperrschicht umfaßt, wobei alternierend Wechselschichten aus organischen und anorganischen Materialien abgeschieden werden, bei welchem die Beschichtungszeit zum Aufbringen der Haftvermittlerschicht zwischen 0,05s bis 4,0 s liegt, und/oder die Beschichtungszeit zum Aufbringen der anorganischen Sperrschicht zwischen 0,1s bis 6,0s liegt sowie ein verfahrensgemäß hergestelltes Verbundmaterial an.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates aus einem organischen Kunststoff, insbesondere aus Polymethylmetakrylat (PMMA) mit einer Mehrzahl von Funktionsschichten sowie mit einer zwischen diesen beiden befindlichen Zwischenschicht. Die Erfindung betrifft ferner einen beschichteten Körper. Das erfindungsgemäße Verfahren umfaßt die folgenden Verfahrensschritte:
die Zwischenschicht wird auf das Substrat mittels eines PECVD-Verfahrens aufgebracht; das Aufbringen der Zwischenschicht erfolgt bei minimaler Energiebelastung des Interface des Substrates.
摘要:
Die Erfindung gibt ein Verfahren zum Aufbringen von Wechselschichten durch chemische Gasphasenabscheidung, welches die Verfahrensschritte des Abscheidens einer Haftvermittlerschicht auf einem Substrat, und des Aufbringens einer Sperrschicht umfaßt, wobei alternierend Wechselschichten aus organischen und anorganischen Materialien abgeschieden werden, bei welchem die Beschichtungszeit zum Aufbringen der Haftvermittlerschicht zwischen 0,05s bis 4,0 s liegt, und/oder die Beschichtungszeit zum Aufbringen der anorganischen Sperrschicht zwischen 0,1s bis 6,0s liegt sowie ein verfahrensgemäß hergestelltes Verbundmaterial an.
摘要:
Um die Eigenschaften von Barrierebeschichtungen zu verbessern, sieht die Erfindung ein Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf ein Substrat (10) vor, wobei zum Beschichten ein Plasma eingesetzt wird, das insbesondere unter Verwendung von Mikrowellen in einer Gasatmosphäre, die zumindest einen Precursor umfaßt, erzeugt wird, wobei auf dem Substrat (10) vor dem Abscheiden zumindest einer weiteren Schicht zumindest eine organische Haftvermittlerschicht (11) abgeschieden wird, die zumindest in den ersten Monolagen im Lagenwachstum aufwächst.
摘要:
Um die Ein- und Ausschleusung von Werkstücken (11) für deren CVD-Behandlung in Reaktoren (5) zu vereinfachen ist eine Vorrichtung zum CVD-Behandeln von Werkstücken vorgesehen, welche eine Transporteinrichtung und zumindest einen auf der Transporteinrichtung befestigten Reaktor umfaßt, wobei die Vorrichtung zumindest eine mechanische Steuerkurve (15) und der Reaktor eine Einrichtung zum Öffnen und Schließen aufweisen, welche mit der zumindest einen Steuerkurve betätigt wird.
摘要:
Um eine wirtschaftlich günstige CVD-Beschichtung bei langen Beschichtungszeiten zu ermöglichen, sieht die Erfindung eine Vorrichtung für CVD-Beschichtungen vor, welche eine Transporteinrichtung (2), zumindest eine Beschichtungsstation (53) zur Beschichtung von Werkstücken und zumindest eine Einrichtung zum Evakuieren (19,194) und eine Einrichtung zur Erzeugung eines Plasmas (25) in wenigstens einem Teilbereich der Beschichtungsstation umfaßt, wobei in der zumindest einen Beschichtungsstation wenigstens zwei Werkstücke (7) aufnehmbar sind.
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Aufnehmen und Vakuumabdichten eines Behältnisses, wie sie insbesondere Anwendung bei der Innen- und/oder Außenbeschichtung von Behältnissen findet. Die Erfindung sieht vor, dass eine solche Vorrichtung zum Aufnehmen und Vakuumabdichten wenigstens eines Behältnisses (3) mit einer Dichtungseinrichtung (6) zum Abdichten der Ausgießöffnung in einem definierten Endzustand ferner eine Aufnahme mit einem Einführbereich (2) umfasst, in welchen der an die Außießöffnung angerenzende Wandungsbereich (3a) mit der Ausgießöffnung wenigstens teilweise einführbar ist, und eine mit der Aufnahme zusammenwirkende Käfigeinrichtung (9, 10, 11), die wenigstens ein Einspannelement (8) derart hält, dass bei Kraftbeaufschlagung der Käfigeinrichtung (9, 10, 11) in Einführrichtung des Behältnisses (3) in den definierten Endzustand das Einspannelement (8) aus einer den Einführbereich (2) im Wesentlichen freigebenden Position in eine in den Einführbereich (2) hineinragende Position führbar ist.