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1.

发明授权
Method of monitoring constituents in plating baths 失效
标题翻译：在镀浴检测成分的方法

公开(公告)号：EP0598380B1

公开(公告)日：1998-10-21

申请号：EP93118488.1

申请日：1993-11-16

申请人： TECHNIC, INC.

发明人： Ludwig, Frank A. , Eliash, Bruce M. , Phan, Nguyet H. , Reddy, Vilambi NRK

IPC分类号： G01N27/49

CPC分类号： G01N27/49

2.

发明授权
Method for monitoring purification treatment in plating baths 失效
标题翻译：在Plattierungbädern监测纯化处理的方法

公开(公告)号：EP0617279B1

公开(公告)日：2000-02-16

申请号：EP94104319.2

申请日：1994-03-18

申请人： TECHNIC, INC.

发明人： Reddy, Vilambi NRK , Eliash, Bruce M. , Ludwig, Frank A. , Phan, Nguyet H.

IPC分类号： G01N27/49 , G01N27/48

CPC分类号： G01N27/48

3.

发明授权
Method of monitoring major constituents in plating baths 失效
标题翻译：在镀浴监测基本组分的方法

公开(公告)号：EP0617280B1

公开(公告)日：1999-09-01

申请号：EP94104325.9

申请日：1994-03-18

申请人： TECHNIC, INC.

发明人： Phan, Nguyet H. , Reddy, Vilambi NRK , Ludwig, Frank A. , Eliash, Bruce M.

IPC分类号： G01N27/49 , G01N27/48

CPC分类号： G01N27/49 , G01N27/48

4.

发明授权
Method of monitoring metal ion content in plating baths 失效
标题翻译：一种用于监测在镀浴离子的浓度的方法

公开(公告)号：EP0626577B1

公开(公告)日：1998-08-12

申请号：EP94108101.0

申请日：1994-05-25

申请人： TECHNIC, INC.

发明人： Eliash, Bruce M. , Ludwig, Frank A. , Phan, Nguyet H. , Reddy, Vilambi NRK

IPC分类号： G01N27/42

CPC分类号： G01N27/42 , Y10S204/08