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发明公开
POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST LAMINATES AND PROCESS FOR THE FORMATION OF RESIST PATTERNS 审中-公开
标题翻译：正光刻胶组合，抗层压板和工艺的形成抗蚀剂结构

公开(公告)号：EP1643307A4

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：EP04745842

申请日：2004-06-08

申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

发明人： TAMURA KOKI , KAWANA DAISUKE , YAMADA TOMOTAKA , HOSONO TAKAYUKI , HIRAYAMA TAKU , SATO KAZUFUMI , SHIMBORI HIROSHI , ANDO TOMOYUKI

IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0045