公开(公告)号：EP1895576A1

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：EP06766824.4

申请日：2006-06-16

申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  Riken

发明人： MATSUMARU, Shogo, TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  OGATA, Toshiyuki, TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  ISHIKAWA, Kiyoshi, TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  HADA, Hideo, TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  FUJIKAWA, Shigenori ,  KUNITAKE, Toyoki

IPC分类号： H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/0273 ,  G03F7/405

摘要： There are provided a coating material which improves an etching resistance of a pattern in an etching process using a pattern formed on a substrate as a mask.
The material is a pattern coating material for an etching process using a pattern formed on a substrate as a mask, including a metal compound (W) which can produce a hydroxyl group on hydrolysis.

摘要翻译： 提供一种涂覆材料，其使用在基板上形成的图案作为掩模，在蚀刻工艺中提高图案的耐蚀刻性。 该材料是使用在基材上形成的图案作为掩模的蚀刻工艺的图案涂布材料，其包括在水解时可产生羟基的金属化合物（W）。