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1.发明授权Apparatus for forming an X-ray beam compensation mask and method of compensating the X-ray image of an object. 失效用于形成X射线光束补偿掩模的装置和补偿对象的X射线图像的方法
公开(公告)号：EP0148213B1
公开(公告)日：1992-08-19
申请号：EP84902395.7
申请日：1984-05-31
发明人： MISTRETTA, Charles, A. , PEPPLER, Walter, W. , KUDVA, Balakrishna, V. , HASEGAWA, Bruce, H. , DOBBINS, James, T.
摘要： X-ray compensation masks (51) are prepared by exposing an X-ray target object (43), such as a patient, to a first beam of X-rays. The X-ray fluence from the patient is received by an electronic image receptor (44) which provides an output signal indicating the intensity of the X-rays at all positions in the image field. The image information is converted by an image processor (47) to transformed X-ray intensity values for a plurality of pixels which cover the image field. A mask generating controller (48) determines the minimum transformed intensity value for any pixel, assigns to each pixel an attenuation number which is proportional to the difference between the transformed intensity value for the pixel and the minimum transformed intensity value, and issues control signals to a mask former (49) which deposits on a non-attenuating substrate (50) attenuating masses in a two dimensional array of pixels with the mass thickness in each pixel proportional to the attenuation number. When the mask (51) is inserted into the beam from the X-ray source (41), and a second exposure taken, the X-ray fluence passing through both the attenuating mask (51) and the patient (43) will be substantially equalized across the image field.
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2.发明公开DIGITALLY CONTROLLED X-RAY BEAM ATTENUATION METHOD AND APPARATUS 失效设备用于制造X射线束补偿掩模和方法，用于对象的X射线图像的补偿。
公开(公告)号：EP0148213A1
公开(公告)日：1985-07-17
申请号：EP84902395.0
申请日：1984-05-31
发明人： MISTRETTA, Charles, A. , PEPPLER, Walter, W. , KUDVA, Balakrishna, V. , HASEGAWA, Bruce, H. , DOBBINS, James, T.
摘要： Des masques de compensation de rayons X (51) sont préparés en exposant un objet cible (43), tel qu'un patient, à un premier faisceau de rayons X. Le flux de rayons X provenant du patient est reçu par un récepteur d'image électronique (44) qui produit un signal de sortie indiquant l'intensité des rayons X dans toutes les positions du champ d'image. Les informations d'image sont converties par un processeur d'image (47) en des valeurs transformées d'intensité de rayons X pour une pluralité de "pixels" qui couvrent le champ d'image. Un contrôleur de production de masque (48) détermine la valeur minimale d'intensité transformée pour chaque pixel, attribue à chaque pixel un nombre d'atténuation qui est proportionnel à la différence entre la valeur d'intensité transformée pour le pixel et la valeur minimale d'intensité transformée, et envoie des signaux de commande à un dispositif de formage de masque (49) qui dépose sur un substrat non-atténuateur (50) des masques d'atténuation selon une matrice bidimensionnelle de pixels, l'épaisseur de la masse dans chaque pixel étant proportionnelle au nombre d'atténuation. Lorsque le masque (51) est inséré dans le faisceau provenant de la source de rayons X (41), et lorsqu'on procède à une deuxième exposition, le flux de rayons X traversant aussi bien le masque atténuateur (51) que le patient (43) est sensiblement égalisé sur tout le champ d'image.
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