Hochleistungs-Diodenlaser und Verfahren zum Herstellen eines Hochleistung-Diodenlasers

    公开(公告)号:EP2290766A2

    公开(公告)日:2011-03-02

    申请号:EP10173278.2

    申请日:2010-08-18

    申请人: m2k-laser GmbH

    IPC分类号: H01S5/028 H01S5/02 H01S5/00

    摘要: Bei einem Hochleistungs-Diodenlaser enthalten einander gegenüberliegenden Facetten (26,28) jeweils ein aus Silicium und Kohlenstoff zusammengesetztes amorphes Schichtsystem, das die Funktion sowohl einer Passivierungsschicht (22) als auch der die Reflexion bestimmenden Funktionsschichten (24) übernimmt. Durch diese Maßnahme ist es möglich, einen Hochleistungs-Diodenlaser mit hoher COD-Schwelle bei zugleich hoher Standzeit mit einem vereinfachten Verfahren herzustellen.

    摘要翻译: 二极管激光器具有彼此相对布置的刻面,其中小面由由硅和碳组成的非晶层系统(26,28)制成。 非晶层系统执行钝化层(22)的功能和反射确定功能层(24)的功能。 通过等离子体增强化学气相沉积工艺或使用诸如甲烷和硅烷的工艺气体的热化学气相沉积工艺沉积非晶层系统。 钝化层用作扩散阻挡层。 还包括用于制造大功率二极管激光器的方法的独立权利要求。